往復真空泵維修離子鍍膜技術

PVD鍍膜(離子鍍膜)技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD鍍膜膜層的特點,采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

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往復真空泵維修技術的發(fā)展

PVD技術出現(xiàn)于二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學穩(wěn)定性等優(yōu)點。之前在高速刀具領域的成功應用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視，人們在開發(fā)、高可靠性涂層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態(tài)為壓應力，更適于對硬質合金精密復雜刀具的涂層；PVD工藝對環(huán)境無不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。目前PVD涂層技術已普遍應用于硬質合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。

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往復真空泵維修方法制備有機功能薄膜的技術

莫爾定律講的是硅片上的元件密度,這是描述大規(guī)模集成電路進行信息加工能力的參量,按照IBM公司1994年發(fā)表的特殊報告講到的關于奇妙的芯片:元件的尺寸越小,芯片的功能越大。

信息存儲密度106bit／cm2，可存下一篇30頁;108bit／cm2,能存300頁的書10本;1010bit／cm2,存1000本書;1012bit／cm2,存10萬本書,對于一塊3.5＂磁盤可存入500萬本書是可能的。這幾乎是我國目前省級圖書館的全部藏書。由這個估算可見存儲密度的提高,其芯片的功能是極其驚人的。這只是量變的推算,應該考慮到量變到質變產(chǎn)生的功能飛躍。

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往復真空泵維修的保養(yǎng)小竅門

真空鍍膜產(chǎn)品長期暴露在空氣中，面對酸堿等強腐蝕性物質的接觸，還是難以抵擋。因此，平時保養(yǎng)維護時，盡量不選用含強酸強堿或去污能力強的清洗劑，如潔廁精，脫漆劑，金屬清洗劑等，可以選用工業(yè)酒精用絨布輕柔擦拭；如果表面有污垢，也要選用弱酸弱堿溶劑來處理。

此外，如果長時間暴露在惡劣環(huán)境中，或與腐蝕性液體長時間接觸，PVD膜層也容易出現(xiàn)脫落等問題，如游泳池（含氟），海水（含鹽分多），高溫高濕（蒸汽）等環(huán)境中。

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