超純水（Ultrapure water）又稱UP水，是指電阻率達到18 MΩ*cm（25℃）的水。（3）單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二噁i英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。可以用于超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術的制備過程。

超純水設備的主要特點：

1.產水水質高而具有較佳的穩(wěn)定度高

2.連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機。

3.模塊化生產，并可實現全自動控制。

4.不須酸堿再生，無污水排放。

5.無酸堿再生設備和化學藥品儲運。

6.設備結構緊湊，占地面積小。

7.運行費用及維修成本低。

8.運行操作簡單，勞動強度低

超純水設備基本參數

1、給水：RO純水，一般水的電導率為4-30us/cm。

2、PH：5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)

3、溫度：5-35℃

4、進水壓力：較大為4kg/cm2(60psi)，較小為1.5kg/cm2(25psi)。

當活性碳過濾器因截留過量的機械雜質而影響其正常工作，則可用反沖洗的方法來進行清洗。實驗室超純水機大致分為預處理、反滲透、超純化、終端超濾四個單元。利用逆向進水，使過濾器內砂濾層松動，可使粘附于濾料表面的截留物剝離并被反沖水流帶走，有利于排除濾層中的沉渣、懸浮物等，并防止濾料板結，使其充分恢復截污、從而達到清洗的目的。反洗以進出口壓差參數設置來控制反沖洗周期，一般為三至四天，具體須視原水濁度而定。國活性炭罐的設計與石英砂基本相同。