大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類(lèi)包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線（氣體種類(lèi)包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類(lèi)包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類(lèi)包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類(lèi)包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類(lèi)包括HCL）等行業(yè)。系統(tǒng)采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式輸氣方式，在一拖多時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)分段控制和在多拖一和多拖多時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)切換控制。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。

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試驗(yàn)室供氣需求

目前大多數(shù)試驗(yàn)室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質(zhì)譜儀、液相色譜質(zhì)譜儀、原子吸收分光光度計(jì)、原子熒光光度計(jì)、等離子發(fā)射光譜儀、電感耦合等離子質(zhì)譜儀等都需要連續(xù)使用高純載氣和燃?xì)?，因此試?yàn)室的安全、連續(xù)、穩(wěn)定運(yùn)行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗(yàn)室中放置的分析儀器。每種氣體可以將多瓶氣體并聯(lián)然后通過(guò)一個(gè)出口統(tǒng)一減壓后運(yùn)送氣體至使用點(diǎn)。

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氦質(zhì)譜檢漏儀

隨著科技的迅猛發(fā)展，氦質(zhì)譜檢漏儀及其應(yīng)用技術(shù)也在不斷發(fā)展和究善。（1）特氣柜又分為全自動(dòng)特氣柜與半自動(dòng)特氣柜，每種氣柜的維護(hù)方法有一定的區(qū)別。各國(guó)的設(shè)備廠商相繼推出了多種類(lèi)烈的氦質(zhì)譜檢漏儀，廣泛應(yīng)用丁航空航天，電力電子，汽車(chē)等各個(gè)行業(yè)，綜觀1新氦質(zhì)譜檢漏儀的性能特點(diǎn)發(fā)現(xiàn)，氦質(zhì)譜檢漏儀正向著高靈敏度、自動(dòng)化、寬程、等先進(jìn)方向發(fā)展，這些特點(diǎn)很好地滿足了當(dāng)前檢漏應(yīng)用的需求，也極大地1推動(dòng)了氮質(zhì)譜檢漏技術(shù)的不斷發(fā)展。

高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來(lái)越高，對(duì)氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格，需要達(dá)到ppb、ppt級(jí)，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對(duì)高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。特氣系統(tǒng)知識(shí)分享：標(biāo)準(zhǔn)氣體所謂標(biāo)準(zhǔn)氣體就是用來(lái)校正測(cè)量?jī)x器、評(píng)價(jià)測(cè)定方法、給出未知樣品氣標(biāo)準(zhǔn)值的氣體。