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氣相化學(xué)沉積設(shè)備廠家承諾守信【沈陽鵬程】

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-19 16:30  






化學(xué)氣相沉積的原理

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售化學(xué)氣相沉積,我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

化學(xué)氣相沉積技術(shù)是應(yīng)用氣態(tài)物質(zhì)在固體上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)和傳輸反應(yīng)等并產(chǎn)生固態(tài)沉積物的一種工藝,它大致包含三步:

(1)形成揮發(fā)性物質(zhì) ;

(2)把上述物質(zhì)轉(zhuǎn)移至沉積區(qū)域 ;

(3)在固體上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)并產(chǎn)生固態(tài)物質(zhì) ?;镜幕瘜W(xué)氣相沉積反應(yīng)包括熱分解反應(yīng)、化學(xué)合成反應(yīng)以及化學(xué)傳輸反應(yīng)等集中。



化學(xué)氣相沉積技術(shù)在材料制備中的使用

化學(xué)氣相沉積法生產(chǎn)晶體、晶體薄膜

化學(xué)氣相沉積法不但可以對(duì)晶體或者晶體薄膜性能的改善有所幫助,而且也可以生產(chǎn)出很多別的手段無法制備出的一些晶體?;瘜W(xué)氣相沉積法常見的使用方式是在某個(gè)晶體襯底上生成新的外延單晶層,開始它是用于制備硅的,后來又制備出了外延化合物半導(dǎo)體層?;瘜W(xué)氣相沉積法在金屬材料方面的使用想要了解更多化學(xué)氣相沉積的相關(guān)內(nèi)容,請(qǐng)及時(shí)關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司網(wǎng)站。它在金屬單晶薄膜的制備上也比較常見(比如制備 W、Mo、Pt、Ir 等)以及個(gè)別的化合物單晶薄膜(例如鐵酸鎳薄膜、釔鐵石榴石薄膜、鈷鐵氧體薄膜等)。

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等離子體化學(xué)氣相沉積

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等離子體化學(xué)氣相沉積簡(jiǎn)稱PCVD,是一種用等離子體激發(fā)反應(yīng)氣體,促進(jìn)在基體表面或近表面空間進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)膜的技術(shù)。等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)的基本原理是在高頻或直流電場(chǎng)作用下,源氣體電離形成等離子體,利用低溫等離子體作為能量源,通入適量的反應(yīng)氣體,利用等離子體放電,使反應(yīng)氣體激發(fā)并實(shí)現(xiàn)化學(xué)氣相沉積的技術(shù)。等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)的基本原理是在高頻或直流電場(chǎng)作用下,源氣體電離形成等離子體,利用低溫等離子體作為能量源,通入適量的反應(yīng)氣體,利用等離子體放電,使反應(yīng)氣體激發(fā)并實(shí)現(xiàn)化學(xué)氣相沉積的技術(shù)。



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