300D三源有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)

主要用途：

特別適合OPV/鈣鈦礦/無機(jī)薄膜太陽能電池、半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室系統(tǒng)蒸發(fā)室、蒸發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺系統(tǒng)、 真空抽氣及測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、膜厚測試 系統(tǒng)、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度6.7×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa（短時(shí)間暴露 大氣并充干燥氮?dú)夂箝_始抽氣）

樣品臺：尺寸為4英寸平面樣品；

蒸發(fā)源：3套

4套擋板系統(tǒng)：擋板共有3套，動密封手動控制；

氣路系統(tǒng):質(zhì)量流量控制器1路

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999?

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)

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多源蒸發(fā)系統(tǒng)介紹

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)供應(yīng)電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品，以下信息由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供。

系統(tǒng)主要用來生長EL OEL分子有機(jī)電致發(fā)光器件薄膜的研究工作　　

該類設(shè)備為雙室?guī)痔紫浣Y(jié)構(gòu)的有機(jī)、無機(jī)、多源有機(jī)、無機(jī)氣相分子沉積設(shè)備，采用直線式結(jié)構(gòu)，由一個(gè)金屬材料生長、氧化物生長室、一個(gè)有機(jī)材料生長室和一個(gè)手套箱組成，金屬材料生長和氧化物生長室以及進(jìn)樣室/氧化物生長室之間通過空氣鎖聯(lián)接，樣品通過帶遠(yuǎn)程手控盒功能的電動磁力耦合裝置在兩個(gè)生長室之間手動傳遞?？蛇x手套箱。電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)以及特點(diǎn)結(jié)構(gòu)和特點(diǎn)：結(jié)構(gòu)可為立臥式雙開門結(jié)構(gòu)，成膜速率快，色澤鮮亮，膜層不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產(chǎn)生廢液、廢水，可避免對環(huán)境污染，屬環(huán)保設(shè)備?！　?/span>