氦質(zhì)譜檢漏儀

設(shè)備是產(chǎn)生、改善并維持真空的裝置，包括真空應(yīng)用設(shè)備及真空獲得設(shè)備。若器件有漏，則通過(guò)該漏孔壓人的氦氣又釋放出來(lái)進(jìn)入檢漏罐，終到達(dá)質(zhì)譜管。真空系統(tǒng)設(shè)備的真空系統(tǒng)是核心，主要由真空獲得、真空測(cè)量、真空腔體（或容器）以及控制輔助等部件（如真空閥門、管道等）。其在使用過(guò)程中如果真空度達(dá)不到或者達(dá)到真空度速度慢都會(huì)影響企業(yè)的生產(chǎn)效

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氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏率

機(jī)器的性能支持幾秒一次的高頻率測(cè)試

配有檢漏口精細(xì)過(guò)濾器，過(guò)濾細(xì)微雜質(zhì)，確保機(jī)器不受雜質(zhì)影響和損傷

雙銥絲離子源，有效的系統(tǒng)設(shè)計(jì)，防大氣沖擊

支持定制檢漏工作臺(tái)，更加便捷使用

可檢漏率（負(fù)壓模式）         5×10-13Pa?m3/s

可檢漏率（正壓模式）         1×10-8Pa?m3/s

氦較除氫以外的其他氣體通過(guò)同一漏孔的漏率就大，容易發(fā)現(xiàn)，靈敏度高。氦質(zhì)譜檢漏儀高壓強(qiáng)下檢漏：檢漏口壓強(qiáng)可高達(dá)數(shù)百帕左右，對(duì)檢測(cè)大系統(tǒng)和有大漏的工件很有益。氦是惰性氣體，不與被檢件器壁起化學(xué)反應(yīng)，不會(huì)污染被檢件，使用安全。在氦兩側(cè)的是氫（質(zhì)荷比為2）和雙電荷原子碳（質(zhì)荷比為6），質(zhì)荷比都與氦相差較大。這樣，它們?cè)诜治銎髦械钠D(zhuǎn)半徑相差也大，容易分開(kāi)，定標(biāo)找氦峰時(shí)，不易受其他離子的干擾