國外于60年前開始生產(chǎn)稀土拋光粉，二十世紀90年代已形成各種標準化、系列化的產(chǎn)品達30多種規(guī)格牌號。

　　目前，國外的稀土拋光粉生產(chǎn)廠家主要有15家（年生產(chǎn)能力為200噸以上者）。其中，法國羅地亞公司年生產(chǎn)能力為2200多噸。是目前大的稀土拋光粉生產(chǎn)廠家。美國的拋光粉年產(chǎn)量能力達1500噸以上。

。日本生產(chǎn)稀土拋光粉的原料采用氟碳礦、粗氯化和氯化稀土三種，工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產(chǎn)在燒結(jié)設備和技術上均具特色。1968年，我國在上海躍龍化工廠研制成功稀土拋光粉。






因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤領域的應用逐漸受到重視，產(chǎn)量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經(jīng)問世，隨著現(xiàn)代科學技術的發(fā)展，其應用前景不可預測，但目前其市場份額還很小，屬于研發(fā)階段。






目前，我國生產(chǎn)系稀土拋光粉的原料有下列幾種：（1）氧化（CeO2），由混合稀土鹽類經(jīng)分離后所得（w（CeO2）=99%）；（2）混合稀土氫氧化物（RE（OH）3），為稀土精礦（w（REO）≥50%）化學處理后的中間原料（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）；（3）混合氯化稀土（RECl3），從混合氯化稀土中萃取分離得到的少銪氯化稀土（主要含La,Ce,Pr和Nd,w（REO）≥45%,w（CeO2）≥50%）；（4）高品位稀土精礦（w（REO）≥60%,w（CeO2）≥48%），有內(nèi)蒙古包頭混合型稀土精礦，山東微山和四川冕寧的氟碳礦精礦。

稀土拋光粉的應用

　　由于系稀土拋光粉具有較優(yōu)的化學與物理性能，所以在工業(yè)制品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密制品等的拋光。

　　高系稀土拋光粉，主要適用于精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明，該拋光粉的性能優(yōu)良，拋光效果較好，由于價格較高，國內(nèi)的使用量較少。