Parylene HT，該材料具有更低的介電常數(shù)(即透波性能好)、好的穩(wěn)定性和防水、防霉、防鹽霧性能.短期耐溫可450攝氏度，長期耐溫

        CVD（Chemical Vapor Deition）法：將對二和水蒸氣按一定比例混合，經(jīng) 950~1000 °C高溫?zé)峤?，得到對二環(huán)二體(dimer)，隨后，經(jīng)提純的二聚體在 120°C 的升華區(qū)內(nèi)升華，在惰性氣體的推動下，二聚體進(jìn)入溫度為 660°C 的裂解區(qū)，高溫下二聚體的分子鍵斷裂，生成活性的對二活性單體(monomer)，后在惰性氣體氣的推動下，活性單體在常溫或較低溫度下的真空沉積室里，在相應(yīng)的基體材料的表面聚合沉積為parylene 薄膜。

       隨著市場多元化的不斷需求，對于很多企業(yè)來說需要根據(jù)其產(chǎn)品的工序購置不同的機(jī)器設(shè)備，拿真空鍍膜行業(yè)來說，如果一臺機(jī)器就能完成從鍍膜前處理到鍍膜后處理，中間不需要人工干預(yù)不需要轉(zhuǎn)換工序，那么無疑是企業(yè)的香餑餑，在單設(shè)備上實(shí)現(xiàn)一體化多功能成為了鍍膜設(shè)備行業(yè)企業(yè)的共同需求。

       真空鍍膜設(shè)備普遍應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)，無論是小產(chǎn)品還是大產(chǎn)品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產(chǎn)品，基本上所有需要進(jìn)行表面處理鍍膜的都需要用到。在鍍膜方式上，比較普遍的是采用蒸發(fā)鍍或者磁控濺射鍍或者離子鍍，在控制技術(shù)上，更多的應(yīng)用先進(jìn)的計(jì)算機(jī)技術(shù)和微電子技術(shù)，使得真空鍍膜設(shè)備更具性和智能自動化。

       派瑞林涂層薄膜的止回閥。微閥具有扭曲型的派瑞林涂層膜, 當(dāng)有流體順流時(shí), 派瑞林涂層薄膜抬起, 允許流體通過; 當(dāng)有流體逆時(shí),派瑞林涂層薄膜封住了通道阻止其流動。該結(jié)構(gòu)的微閥順流沖破壓力小于0. 5 kPa, 逆流的制止壓力達(dá)600 kPa以上, 同時(shí)具有較低的反向泄漏, 性能非常好。由于派瑞林涂層較小的楊氏模量, 產(chǎn)生了較大的變形, 基本可以忽略由薄膜引起的流體阻抗。單通道常閉微止回閥, 整個(gè)微閥和微通道都是由派瑞林涂層 C制成的, 其結(jié)構(gòu)為在圓形閥座上的一個(gè)圓形的密封板。密封板是固定在子腔薄膜的頂部中心, 由于大氣壓強(qiáng)使子腔壓縮到底部, 從而獲得微閥的閉合模式。這種新型的子腔結(jié)構(gòu)是通過沒有層結(jié)構(gòu)的釋放和在真空條件下派瑞林涂層薄膜的氣相沉積來實(shí)現(xiàn)的。通過減小密封板和閥座的重疊面積和濺射金屬金來減小靜摩擦力, 從而減小順流沖破壓力。此種結(jié)構(gòu)的微閥的順流沖破壓力為20～40 kPa, 在逆流壓力為270 kPa也不會出現(xiàn)可見的泄露現(xiàn)象。