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隨著鍍膜技術(shù)的快速增長(zhǎng),各種類型的真空鍍膜機(jī)也開始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性,恐怕所有的真空設(shè)備鍍制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響,現(xiàn)在我們就濺控濺射鍍膜機(jī)來看看造成不均勻的因素有哪些。
對(duì)此,真空鍍膜機(jī)廠家指出,它的運(yùn)作原理其實(shí)很簡(jiǎn)單。就是通過真空狀態(tài)下正交磁場(chǎng)使電子轟擊氣形成的離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車燈鍍膜機(jī)廠家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、氣這三個(gè)方面。真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來控制的,每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了,壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制,太短會(huì)造成真空度不夠,但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源,不過有真空機(jī)的存在,要控制好還是不成問題的
各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)蒸發(fā)源或蒸發(fā)靶,以便將蒸發(fā)的成膜物質(zhì)轉(zhuǎn)化為氣體。隨著來源或目標(biāo)的不斷提高,制作材料的選擇范圍也大大擴(kuò)大。無論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機(jī)物,都可以氣相沉積各種金屬膜和介質(zhì)膜,不同的材料可以同時(shí)氣相沉積得到多層膜。
蒸發(fā)或?yàn)R射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過程。膜厚可以測(cè)量和控制。磁控鍍膜機(jī)的真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積和化學(xué)氣相沉積。