曝光及顯影設(shè)備還包括主體曝光機10、基板輸送機構(gòu)50及傳送裝置40。主體曝光機10用于先對基板S的主體進行曝光。傳送裝置40用于將來自該主體曝光機10的基板S傳送至基板輸送機構(gòu)50,傳送裝置40例如為機械手臂?；遢斔蜋C構(gòu)50用于將基板S輸送至顯影裝置30，基板輸送機構(gòu)50例如為輸送輥。由于該基板的長邊邊緣容易存在殘留光阻，因此，本公開通過設(shè)置對應于基板的長邊邊緣的邊緣曝光裝置20，即可去除絕大部分的殘留光阻。


在連續(xù)的板子蝕刻中，蝕刻速率越一致，越能獲得均勻蝕刻的板子。要達到這一要求，必須保證蝕刻液在蝕刻的全過程始終保持在的蝕刻狀態(tài)。這就要求選擇容易再生和補償，蝕刻速率容易控制的蝕刻液。選用能提供恒定的操作條件和對各種溶液參數(shù)能自動控制的工藝和設(shè)備。通過控制溶銅量，PH值，溶液的濃度，溫度，溶液流量的均勻性(噴淋系統(tǒng)或噴嘴以及噴嘴的擺動)等來實現(xiàn)。

工件經(jīng)前處理合格后，即可進行氧化。在該工序中主要控制氧化電流及氧化時間，保證批量產(chǎn)品氧化質(zhì)量的一致性。

①生產(chǎn)中必須保證導電極桿和電接頭光潔干燥，確保導電性能良好。

②每天檢查設(shè)備完好情況，保證工作缸溶液都處于工藝控制范圍。批量生產(chǎn)的氧化缸中H2SO4及All濃度每天都要分析，協(xié)助工藝工程師做好氧化缸的調(diào)節(jié)工作。