研磨機配用拋光盤的技巧

研磨機配用拋光盤的技巧 研磨機分為單面和雙面，主要用于LED藍寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。在拋光過程中少不了一種耗材，那便是拋光盤，拋光盤關(guān)系到工件表面的精度。因此，選用拋光盤有一定的技巧，下面為大家小結(jié)3點。 首先不能使用廢棄且已經(jīng)磨損變形的拋光盤，一些小企業(yè)為了節(jié)省成本就會這樣做。其次盡量使用耐磨性能好的拋光盤，拋光盤的材質(zhì)有多種，不同材質(zhì)的耐磨性能各不相同，選擇材質(zhì)較好的拋光盤，在耐磨損性能方面也有一定的保證。 后，如果有耐磨性能很好但是稍微出現(xiàn)了磨損，建議采用人工修整拋光盤的平面，這樣可避免耗材的浪費。

平面研磨機和平面拋光機的差別

平面研磨機和平面拋光機的差別論 平面研磨機和平面拋光機都是表面處理行業(yè)常用到的設(shè)備，雖然這兩者都是適用于平面的工件，但還是有很多不同的，接下來就從以下幾個方面來闡述它們之間的差別。 首先是用途上的差別，平面研磨機主要用于LED藍寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。而平面拋光機是處理平面工件的塌邊現(xiàn)象，平滑，斑點，祛除工件表面的劃痕，完成超精密加工使工件表面光滑以達到鏡面效果。 其次是工作原理的差別，平面研磨機為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦，來達到研磨拋光目的。而平面拋光機是通過發(fā)動機帶動磨盤轉(zhuǎn)動，并和在磨盤上自轉(zhuǎn)的工件產(chǎn)生摩擦，運用摩擦產(chǎn)生切削力，將工件表面凹凸不平的地方磨平，來達到拋光目的。 很多對平面研磨機和平面拋光機分不清的朋友看完這篇文章應(yīng)該有所了解，明白這兩者的區(qū)別有哪些。平面研磨機和平面拋光機是表面處理的美化師，為我們呈現(xiàn)眾多不同的表面美觀的工件。

時間對平面拋光研磨機的拋光液PH的影響分析

時間對平面拋光研磨機的拋光液PH的影響分析 拋光液PH值是拋光元件表面粗糙度的重要影響因素，他是拋光元件化學(xué)拋光的重要組成部分。事實證明，當(dāng)拋光壓力、溫度等外界因素相匹配時，平面拋光研磨機拋光時的PH值應(yīng)控制在11.25左右，這時候化學(xué)拋光和機械拋光的作用相平衡，拋光效果! 拋光液中PH值參數(shù)是衡量一種液體性能是否穩(wěn)定的重要因素。很多拋光液使用者并沒有清楚的意識到這一點，他們往往對拋光液內(nèi)的粒度分布，粒徑大小，均勻性，配比等感興趣，而忽略了一個重要的因素-PH值對整個液體狀的的影響。 在化學(xué)性質(zhì)的液體中，PH值的大小影響著液體性能的穩(wěn)定。拋光液一般在微酸或者微堿的時候，對平面拋光研磨機工件的拋光效果，所能達到的表面粗超度。當(dāng)PH值偏堿性時，粗超度變大。所以在配置這種液體的時候，我們不能忽略這一點，一定要反復(fù)試驗，取得一個穩(wěn)定值。 拋光液的PH值是變化的。這是因為拋光液會隨著時間的變化而變化。由于某些工件在拋光時產(chǎn)生水解作用,在實際拋光過程中拋光液的pH值會隨拋光時間不斷變化。在每次添加拋光液后,pH值的變化為劇烈。因此一開始先每隔15s測量一次,之后每隔1min測量一次,從而可得出不同初始pH值的拋光液在拋光過程中pH值的變化規(guī)律。在對不含有堿金屬氧化物,不會與水產(chǎn)生水解反應(yīng),在平面拋光研磨機的拋光過程中拋光液的pH值基本保持不變,所以其拋光方法也不同。