PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝原理

PVD即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜。PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝原理分為以下三種情況：

（1）真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

（2）濺射鍍膜基本原理：充Ar（Ar）氣的真空條件下，使Ar氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)Ar（Ar）原子電離成Ar離子（Ar），Ar離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。

（3）離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)

很多朋友問我關(guān)于多弧離子真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)方面的問題，當(dāng)時(shí)給朋友解釋了很多，今天至成小編為大家詳細(xì)介紹一下：

多弧離子鍍是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光放電放出的陰極物質(zhì)的離子，這種裝置不需要熔池，被蒸發(fā)的靶材接陰極，真空室為陽極，當(dāng)觸發(fā)電極與陰極靶突然瞬間接觸時(shí)，就會(huì)引起電弧，在陰極表面產(chǎn)生強(qiáng)烈發(fā)光的陰極弧光斑點(diǎn)，斑點(diǎn)直徑在100?m以下，斑點(diǎn)內(nèi)的電流密度可達(dá)103~107A/cm2于是在這一區(qū)域內(nèi)的材料就瞬時(shí)蒸發(fā)并電離。陰極弧光斑點(diǎn)在陰極表面上，以每秒幾十米的速度做無規(guī)則運(yùn)動(dòng)，外加磁場用來控制輝點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡和速度，為了維持真空電弧，一般要求電壓為–20到–40V。多弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論，該理論認(rèn)為，放電過程的電量遷移是借助于場電子發(fā)射和正離子電流這兩種機(jī)制同時(shí)存在且相互制約而實(shí)現(xiàn)的。

在放電過程中，陰極材料大量蒸發(fā)，這些蒸汽分子產(chǎn)生的正離子，在陰極表面附近很短的距離內(nèi)產(chǎn)生極強(qiáng)的電場，在這樣強(qiáng)的電場作用下，電子以產(chǎn)生以場電子發(fā)射而溢出到真空中，而正離子可占總的電弧電流的10%左右，被吸到陰極表面的金屬離子形成空間電荷層，由此產(chǎn)生強(qiáng)電場，使陰極表面上功函數(shù)小的點(diǎn)(晶界或裂痕)開始發(fā)射電子。個(gè)別發(fā)射電子密度高的點(diǎn)，電流密度高。焦耳熱使溫度上升又產(chǎn)生熱電子，進(jìn)一步增加發(fā)射電子。這個(gè)正反饋?zhàn)饔檬闺娏骶植考?。由于電流局部集中產(chǎn)生的焦耳熱使陰極材料表面局部爆發(fā)性地等離子化，發(fā)射電子和離子，并留下放電痕。同時(shí)也放出熔融的陰極材料粒子。發(fā)射的離子中的一部分被吸回陰極表面，形成空間電荷層，產(chǎn)生強(qiáng)電場，又使新的功函數(shù)小的點(diǎn)開始發(fā)射電子。

磁控真空鍍膜機(jī)做漸變色原理

現(xiàn)在很多物件都鍍有漸變色，顏色很絢麗也很顯目，現(xiàn)在很多牌子手機(jī)殼也應(yīng)用了這種漸變色，因此，漸變色也越來越受人們關(guān)注，漸變色制作原理也激起了大家的興趣，今天至成小編為大家詳細(xì)介紹一下真開工鍍膜機(jī)做漸變色的原理和方法，希望能幫助到大家。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。而漸變色的工藝制法一般用的磁控濺射鍍膜設(shè)備，目前華為、聯(lián)想等多款手機(jī)漸變色外殼都采用了PVD真空漸變鍍膜工藝。

磁控濺射真空鍍膜設(shè)備是現(xiàn)有產(chǎn)品在真空條件下鍍膜使用的多的一種設(shè)備，一臺(tái)完整的磁控濺射真空鍍膜機(jī)是由多部分系統(tǒng)組成的，每個(gè)系統(tǒng)可以完成不同的功能，從而實(shí)現(xiàn)終的鍍膜，磁控濺射鍍膜其組成包括真空腔、機(jī)械泵、真空測試系統(tǒng)、油擴(kuò)散泵、抽真空系統(tǒng)、冷凝泵以及成膜控制系統(tǒng)等等。

磁控濺射真空鍍膜機(jī)的主體是真空腔，真空腔大小是由加工產(chǎn)品所決定，磁控濺射鍍膜的大小能定制，腔體一般是用不銹鋼材料制作，要求結(jié)實(shí)耐用不生銹等。磁控濺射鍍膜真空腔有許多連接閥用來連接各種輔助泵。

磁控濺射鍍膜成膜控制系統(tǒng)能采用不同方式，比如固定鍍制時(shí)間、目測、監(jiān)控以及水晶震蕩監(jiān)控等。真空鍍膜機(jī)、真空鍍膜設(shè)備鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。磁控濺射方式鍍制的膜層附著力強(qiáng)，膜層的純度高，可以同時(shí)濺射多種不同成分的材料。