純水生產(chǎn)設(shè)備廠家淺談反滲透膜性能下降處理方法

純水生產(chǎn)設(shè)備廠家淺談反滲透膜性能下降處理方法：反滲透膜是純水生產(chǎn)設(shè)備重要的組成部分，反滲透膜在長期使用后會(huì)堆積污垢、細(xì)菌等微觀物質(zhì)，反滲透膜性能下降，這時(shí)會(huì)影響純水生產(chǎn)設(shè)備的產(chǎn)水水質(zhì)，那么純水生產(chǎn)設(shè)備的反滲透膜性能下降怎么辦呢? 反滲透膜性能下降主要原因是由于膜表面受到了污染，如表面結(jié)垢，抹面堵塞;或是膜本身的物理化學(xué)變化而引起的。物理變化主要是由于壓實(shí)效應(yīng)引起膜的透水率下降，化學(xué)變化主要是由于pH值的波動(dòng)引起的，如使醋酸纖維素膜水解;游離氯也會(huì)是芳香聚酰胺膜性能惡化。膜清洗頻率與預(yù)處理措施的完善程度是緊密相關(guān)的。預(yù)處理越完善，清洗間隔越長，反之，預(yù)處理越簡單，清洗頻率越高。盡可能在脫鹽率下降顯示出來以前采取措施。正規(guī)安排的保護(hù)性維護(hù)清洗不足以保護(hù)反滲透系統(tǒng)。譬如，由于預(yù)處理設(shè)備運(yùn)行不正常，進(jìn)水條件在短時(shí)間內(nèi)就會(huì)發(fā)生變化。

純水生產(chǎn)設(shè)備的反滲透膜處理的方法

純水生產(chǎn)設(shè)備的反滲透膜處理的方法是：定期用0.1%甲醛溶液清洗處理至少1h。已經(jīng)污染的膜要用2%檸檬酸銨溶液(pH=4~8)進(jìn)行清洗，或用亞、六聚偏磷酸鈉、稀鹽酸等來防止錳、鐵及碳酸鹽的結(jié)垢。有時(shí)也用酶洗滌劑對(duì)有機(jī)物進(jìn)行清洗。清洗壓力控制在0.34~0。98MPa(3.5~10kgf/cm2)，清洗流速為原來水處理流速的2~3倍。 純水生產(chǎn)設(shè)備廠家講解食品行業(yè)純水的特點(diǎn)，水是必不可少的原料，但并非所有的水都可以供食品行業(yè)使用，需要經(jīng)過純水系統(tǒng)，將自來水/井水處理符合我國GB5749-1988《生活引用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》。

高純水的含量小于0

什么是高純水 高純水是化學(xué)純度極高的水，其中的雜質(zhì)的含量小于0.1mg/L，一般在電子、、航天或其他特殊行業(yè)工藝生產(chǎn)中，為了達(dá)到產(chǎn)品所需工藝用水，一般需要電導(dǎo)率0.055μS/cm（電阻率18.2 MΩ?cm）的理論純水，統(tǒng)稱為高純水或超純水 目前人們制成的高純水的純度已經(jīng)達(dá)到99.999999%，其中雜質(zhì)含量低于0.01mg/L，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機(jī)物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下，電導(dǎo)率小于0. 2μs/cm。

高純水設(shè)備EDI模塊工作原理

高純水設(shè)備EDI模塊工作原理 　　EDI模塊是連續(xù)電除鹽（EDI，Electro deionization或CDI，continuous electrode ionization)技術(shù),是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被除去的過程。這一過程離子交換樹脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對(duì)之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水。又可以比較清晰地描述如下：EDI是利用陰、陽離子膜，采用對(duì)稱堆放的形式，在陰、陽離子膜中間夾著陰、陽離子樹脂，分別在直流電壓的作用下，進(jìn)行陰、陽離子交換。而同時(shí)在電壓梯度的作用下，水會(huì)發(fā)生電解產(chǎn)生大量H 和OH-，這些H 和OH-對(duì)離子膜中間的陰、陽離子不斷地進(jìn)行了再生。由于EDI不停進(jìn)行交換——再生，使得純水度越來越高，所以，輕而易舉的產(chǎn)生了高純度的高純水。