溫度控制比較嚴(yán)格:熱處理要求

溫度控制比較嚴(yán)格：熱處理要求爐溫均勻，避免局部溫度過高，熱處理爐的溫度對產(chǎn)品質(zhì)量有很大影響，被加熱物料斷面上的溫度分布應(yīng)盡可能均勻，溫差不得超過5～15℃；就控制爐溫而言，電爐比較優(yōu)越；為了達(dá)到準(zhǔn)確控制爐溫的目的，燒嘴布置應(yīng)均衡，以便于分段控制，燒嘴太少，過于集中，容易出現(xiàn)局部過熱；發(fā)展趨勢是：低價(jià)的真空滲碳爐開發(fā)會加速，同時(shí)研發(fā)適用于真空滲碳的鋼種也是重要的課題。同時(shí)，燒嘴或電熱體及爐子結(jié)構(gòu)布置應(yīng)利于爐氣循環(huán)。

真空爐電熱元件揮發(fā)而電阻變大等因素影響

真空爐電熱元件揮發(fā)而電阻變大等因素影響真空爐設(shè)備在運(yùn)行中突然出現(xiàn)故障時(shí)，應(yīng)當(dāng)首先觀察儀表盤上是否有提示故障或報(bào)聲音。應(yīng)從儀表盤上確認(rèn)是哪個(gè)部分出現(xiàn)了故障，然后在針對某個(gè)部分進(jìn)行篩查，或通過人員快速排出故障。真空爐加熱功率的復(fù)校隨著爐子使用時(shí)間的延長，隔熱屏的熱阻變小，電熱元件揮發(fā)而電阻變大等因素的影響，應(yīng)適當(dāng)增加功率。隔熱屏的維修隔熱屏在真空爐中起隔熱、保溫作用，有時(shí)也作為固定加熱器的結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)。2）二位式調(diào)理－－它只有開、關(guān)兩種狀態(tài)，當(dāng)高溫爐爐溫低于限給定值時(shí)執(zhí)行器全開。

氣體氮化爐升溫前應(yīng)先送氮?dú)馀艢?/p>

氣體氮化爐升溫前應(yīng)先送氮?dú)馀艢?，排氣時(shí)流量應(yīng)比使用時(shí)大一倍以上。排氣10分鐘后，將控溫儀表設(shè)定到150℃，自動(dòng)加熱開關(guān)撥向開，氣體氮化爐邊排氣邊加熱150℃保持2h排氣，再將控溫儀表設(shè)定到530℃，把氨氣流量調(diào)小，保持爐內(nèi)正壓，排氣口有較小氣流向上的壓力，當(dāng)爐溫升到530℃時(shí)，恒溫恒流滲氮3-20h，再將氨氣壓力調(diào)大一點(diǎn)，讓排氣維持適中壓力，滲氮4-70h，再將氨氣壓力調(diào)小，退氮1-2h，切斷電源，給少量氨氣，使?fàn)t內(nèi)維持正壓，待爐溫降到150℃以下方可停止供氨出爐。當(dāng)工件和鋼材進(jìn)行化學(xué)熱處理時(shí)，如滲碳、滲氮等，都要保持在一定活性成分介質(zhì)中加熱，需用馬沸爐或浴爐。