鍍鉻溶液中的金屬雜質(zhì)對鍍鉻過程有何影響,如何處理?

鍍鉻溶液中的金屬雜質(zhì)對鍍鉻過程有何影響，如何處理?答:鍍鉻電解液中的金屬雜質(zhì)常見的為鐵、銅、鋅等金屬離子。由于鍍鉻時(shí)鐵及銅件落入鍍槽，以及鍍件坑洼及內(nèi)孔處鐵被溶解的結(jié)果，使鍍鉻液難免有鐵、銅等雜質(zhì)存在。鐵的高允許含量為8克/升，銅的高允許含量為5克/升，鋅的高允許含量為3克/升，含有大量鐵時(shí)的電解液的特征，是難于保持電流的穩(wěn)定性，電流不斷地變動(dòng)，因此就不能確定鍍?nèi)」鉂摄t層的工作規(guī)范。

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法，通過將蒸發(fā)的原子或分子應(yīng)用于要電鍍的物體，在表面上形成金屬或化合物的薄膜。在這里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工業(yè)應(yīng)用包括裝飾、包裝紙等，將鋁沉積在金屬光澤上，作為電氣應(yīng)用，用于電阻和電容器。如果地基不釋放氣體，它可以使用非金屬，而不僅僅是金屬。

此外，真空電鍍的沉積方法包括PVD（物理氣相沉積）和CVD法（化學(xué)氣相沉積）。PVD 使用熱和等離子體能量蒸發(fā)固體材料，并將其沉積在基板上。 CVD是一種利用熱和等離子體等能量的氣體，包括薄膜和元素，通過激發(fā)和分解在基板表面吸附和形成薄膜。

電鍍鋅加工過程易產(chǎn)生氫脆

電鍍鋅是商業(yè)緊固件常用的鍍層。它比較便宜，外觀也較好看，可以有黑色、軍綠色。然而，它的防腐性能一般，其防腐性能是鋅鍍（涂）層中低的。一般電鍍鋅中性鹽霧試驗(yàn)在72小時(shí)之內(nèi)，也有采用特殊封閉劑，使得中性鹽霧試驗(yàn)達(dá)200小時(shí)以上，但價(jià)格貴，是一般鍍鋅的5~8倍。

電鍍鋅加工過程易產(chǎn)生氫脆，所以10.9級以上的螺栓一般不采用鍍鋅的處理.雖然鍍后可以用烘箱去氫，但因鈍化膜在60℃以上時(shí)將遭破壞，因此去氫必須在電鍍后鈍化前進(jìn)行。如此可操作性差，加工成本高。在現(xiàn)實(shí)中，一般生產(chǎn)廠不會(huì)主動(dòng)去氫，除非特定客戶的強(qiáng)制要求。