鍍鉻電解液中若含有氯離子,會(huì)產(chǎn)生什么樣的影響,如何除去?

鍍鉻電解液中若含有氯離子，會(huì)產(chǎn)生什么樣的影響，如何除去?答:鍍鉻電解液中的氯離子來源于自來水含氯量過高或工件用鹽酸浸蝕后清洗不干凈所致，氯離子含量高于0.3～0.5克/升時(shí)，則溶液的電流效率和深鍍能力降低，鍍層發(fā)暗起花斑，，抗蝕能力降低。氯離子的去除尚無好的辦法，可以采用電解處理，但很難除去，所以應(yīng)盡量避免帶入。為了防止氯離子的干擾，應(yīng)注意鍍鉻電解液用水的水質(zhì)，不要將大量的氯離子帶入鍍液，特別是枯水期海水倒灌時(shí)更要注意。

化學(xué)電鍍的預(yù)處理中有哪些?

化學(xué)電鍍是指在不利用電能的情況下，通過反應(yīng)電鍍?nèi)芤旱倪€原物質(zhì)和金屬離子，將金屬離子沉積在其他材料表面。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是，無論材料形狀如何，都可以相對(duì)均勻的薄膜。但是沉淀速度慢，電鍍層也相對(duì)薄，難以管理設(shè)備材料和溶液，而且價(jià)格昂貴。在化學(xué)電鍍中，厚度均勻，可以通過加熱提高硬度，因此可以用作耐磨膜。此外，銅的化學(xué)電鍍?cè)谒芰仙想婂兊念A(yù)處理中也經(jīng)常使用。干法電鍍包括真空電鍍、氣相電鍍（氣相沉積），以及使用熔融金屬進(jìn)行的熔融電鍍。

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法，通過將蒸發(fā)的原子或分子應(yīng)用于要電鍍的物體，在表面上形成金屬或化合物的薄膜。在這里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工業(yè)應(yīng)用包括裝飾、包裝紙等，將鋁沉積在金屬光澤上，作為電氣應(yīng)用，用于電阻和電容器。如果地基不釋放氣體，它可以使用非金屬，而不僅僅是金屬。

此外，真空電鍍的沉積方法包括PVD（物理氣相沉積）和CVD法（化學(xué)氣相沉積）。PVD 使用熱和等離子體能量蒸發(fā)固體材料，并將其沉積在基板上。 CVD是一種利用熱和等離子體等能量的氣體，包括薄膜和元素，通過激發(fā)和分解在基板表面吸附和形成薄膜。

除銹去氧化皮有機(jī)械法和化學(xué)法

鋼鐵在加工過程中會(huì)在其表面形成一層氧化皮，還有就是在儲(chǔ)運(yùn)過程中遇水或者腐蝕性液態(tài)就會(huì)生銹，這些氧化皮和銹跡如果不將其清理干凈，就會(huì)加速工件的腐蝕。所以在工件進(jìn)行磷化前對(duì)其進(jìn)行除銹和除氧化皮也是主要的工序，這將關(guān)系磷化質(zhì)量。除銹去氧化皮有機(jī)械法和化學(xué)法，通常情況下都會(huì)采用化學(xué)法，將工件放入到含有工業(yè)鹽酸的酸洗液中，靜置30分鐘左右就能完成除銹和去氧化皮。