鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應用的國產ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質之選！

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鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀

1.   光路形式：Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀

2.   光室恒溫：(30±0.2)℃      

3.   光柵類型：離子刻蝕全息平面光柵

4.   分辨率：不大于0.007nm  

5.   刻線密度：3600g/mm          

6.   高頻發(fā)生器震蕩頻率：40.68MHz   功率穩(wěn)定度：0.1%（長期25℃典型值）

7.   震蕩類型：自激式        

8.   進樣方式：蠕動泵進樣

配有多種霧室（旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室）

9.   霧1化器：同心霧化1器

10. 重復性：RSD ≤1.0%

11. 穩(wěn)定性：RSD ≤2.0%（2小時）

12. 冷卻氣：10-20L/min

13. 輔助氣：0-1.5 L/min

14. 載氣：0.4-1L/min

15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高）

16. 重量：240公斤

鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

Plasma2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”支持下研發(fā)的二維全譜高分辨ICP光譜儀，是國產全譜ICP光譜儀革命性產品，曾斬獲中國儀器儀表行業(yè)協會“自主金獎”等一系列榮譽，在業(yè)界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業(yè)設計，優(yōu)異穩(wěn)定的測試性能源于納克近四十年ICP行業(yè)經驗。Plasma2000擁有

1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，徑向觀測，具有穩(wěn)健的檢測能力。

2、 有效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

3、 高速面陣CCD采集技術，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實現“全譜直讀”。

4、 功能強大的軟件系統，簡化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

可廣泛應用于冶金、地質、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。