當(dāng)零件表面在去除氧化皮進行強腐蝕時

腐蝕過程中產(chǎn)生各種有害氣體，氣體在逸出時產(chǎn)生酸霧，對環(huán)境和設(shè)備影響很大?若在酸洗槽中加入少量OP乳化劑后，酸洗溶液表面能產(chǎn)生一層泡沫，防止了酸霧的逸出

2.電鍍液

在鍍鉻時電流效率極低(10%～15%)，而且使用不溶性鉛陽極，通電后兩極產(chǎn)生大量的氫和氧，容易產(chǎn)生有害的鉻酸煙霧鉻霧污染環(huán)境，危害操作人員的健康，而且引起設(shè)備的腐蝕為抑制鉻霧的產(chǎn)生，可以在鍍鉻液中加入少量全醚磺酸鹽表面活性劑，在鍍鉻時溶液表面形成一層泡沫，抑制了鉻霧逸出，既確保了操作者的健康，又可降低鉻酸消耗。

電鍍中使用的表面活性劑對電沉積過程起著直接和間接的作用，這些作用的實質(zhì)是在電極和溶液界面上物的表面活性作用隨著科學(xué)技術(shù)的進步，表面活性劑在電沉積中的應(yīng)用必將進一步得到重視和發(fā)展。

3.在防蝕及其它方面的應(yīng)用

對于大多數(shù)金屬，由于周圍介質(zhì)的影響，在金屬表面會因發(fā)生化學(xué)或電化學(xué)變化而遭受腐蝕據(jù)統(tǒng)計，每年由于腐蝕而耗掉的金屬和報廢的金屬設(shè)備與材料約相當(dāng)于金屬每年產(chǎn)量的30%為了減少金屬腐蝕，需在金屬表面涂一層保護層或改變腐蝕介質(zhì)性質(zhì)等方法，以隔絕金屬體與周圍環(huán)境的直接接觸除上述磷化處理、電鍍方法外，還有涂防銹油等方法。

化學(xué)清洗技術(shù)在火電廠輸灰管道內(nèi)壁清洗中的應(yīng)用及發(fā)展

目前，我國火電廠普遍采用水力輸灰方式進行輸灰。在運行過程中管道內(nèi)壁易產(chǎn)生堅硬的灰垢，隨著時間的推移，垢層逐漸增厚，致使灰水管道流通面積減少，管內(nèi)灰水流動阻力增大，能耗增加，直接影響機組的安全運行。為了安全、穩(wěn)定、長周期、滿負荷、低能耗地運轉(zhuǎn)，需要對灰水管道及時進行清洗。對于灰水管道中灰垢的清洗技術(shù)，國內(nèi)外都進行了許多研究。在我國采用的有化學(xué)清洗、高壓水射流清洗、PIG（清管器）清洗等，化學(xué)清洗是應(yīng)用至廣的清洗技術(shù)。

1、輸灰管道結(jié)垢原理

輸灰管道中的灰垢是干（濕）灰和水在輸送過程中發(fā)生化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生的沉積物，其垢質(zhì)堅硬，呈灰色，一般按水流方向呈層疊分布。煤粉中的碳酸鈣經(jīng)高溫作用轉(zhuǎn)化為氧化鈣，部分氧化鈣混雜于玻璃體內(nèi)或以硫酸鈣形式存在，部分以游離氧化鈣存在。在輸灰過程中，游離的氧化鈣不停溶解于水中，使灰水中的Ca2 和PH值不斷升高，OH－的增加使HCO－轉(zhuǎn)化為CO32－，當(dāng)灰水中的Ca2 和CO32－濃度超過一定飽和度時，碳酸鈣便結(jié)晶析出，沉積在輸灰管道內(nèi)壁上形成灰垢。因此，輸灰管道中灰垢的主要成分為碳酸鈣。

影響輸灰管道結(jié)垢的因素是煤灰中鈣的含量、沖灰水的PH值、硬度和沖灰水量等。煤灰中鈣的含量越高，結(jié)垢速度越快；沖灰水的硬度越高，水量越小，結(jié)垢傾向越大；沖灰水在堿性條件下，易結(jié)垢。

環(huán)保工業(yè)清洗

隨著科技的進步和大規(guī)模生產(chǎn)的發(fā)展，我們認為仍然有清潔的方法對環(huán)境無害，每年增加數(shù)千噸有毒的二次廢物到我們的垃圾填埋場，這是一種恥辱。

雖然傳統(tǒng)的工業(yè)清洗方法導(dǎo)致了“溶劑”、“沙子”或其他清潔劑的“二次浪費”的處置和去除，干冰不會產(chǎn)生任何二次浪費。

干冰爆決了“二次浪費”，簡單地消失，解決了成本或關(guān)注更傳統(tǒng)的方法。

煮爐清洗工藝

1. 新建鍋爐的除油鈍化先用自來水對鍋爐停止一次預(yù)沖刷。經(jīng)過充水與排水鏟除墜落的污垢，然后用軟化水配成的含Na0I-I、Na3P04各2～3g／L的煮爐清洗液，注入鍋爐至汽包中心水位，鍋爐，熄滅升溫至o·8MPa堅持8—10h。從下聯(lián)箱排污閥將煮爐清洗液放凈，再補償上述的清洗液至汽包中心水位，加熱升壓至1~1.5MPa，堅持8～10h，然后將清洗液排凈。再次補償上述的清洗液至汽包中心方位，加熱升壓至2~2.5／VlPa，堅持8~10h。經(jīng)過三期煮爐處置，即可抵達除油垢和健全鈍化膜的企圖。

2. 結(jié)垢鍋爐的煮爐除垢 關(guān)于結(jié)垢的鍋爐，要依據(jù)垢的詳細狀況制造不同的清洗液。對碳酸鹽垢用2～3g／L

NaOH、20~30/LNa3P04組成的清洗液煮爐；硅酸鹽垢用10～20g／L NaOH和5~10 g／L

Na3P04組成的清洗液煮爐；硫酸鈣垢用10~20g／L Na2CO，和5～10 g／L

Na3P04組成的清洗液煮爐。以上均為以垢厚3ram的參考用藥量，理論運用時應(yīng)依據(jù)垢的理論厚度恰當(dāng)增減。對鍋爐停止水沖刷后，用清洗液注人鍋爐至水位和中心水位之間的高度，熄滅加熱升壓至鍋爐額定壓力的50％，堅持10h，而且每隔2h在各下聯(lián)箱底部排污1rain。結(jié)束次煮爐后，補償相同的藥劑至相同液位高度，加熱升壓至鍋爐額定壓力的75％，堅持10h，并每隔2h排污一次。完畢煮爐后熄火排污，終用水沖刷鍋爐。