真空電鍍設備的主要工作流程

真空電鍍設備是利用在高度真空的條件進行金屬加熱，使金屬起到融化或者蒸發(fā)的作用，并且對金屬物品中的表面形成金屬薄膜的作用。雖然真空電鍍設備的操作流程比較簡單，但是在工作中還需要遵循一定的條件和流程：

1、溫度要求：模溫在45-95攝氏度為宜(比非電鍍件高20攝氏度)。

2、采用較高的注塑溫度，這樣可以提高鍍層的附著力。

3、注塑壓力宜低，注塑速度宜慢，通常應比非電鍍件的成型速度慢一倍。

4、原材料應在80-90攝氏度下烘干4小時，否則殘留的水分將會在成型零件表面產(chǎn)生氣泡，流線紋而影響外觀。

5、不要使用膠模劑，否則會對鍍層的附著力產(chǎn)生很不利的影響，若脫模實在困難，也只能使用滑石粉或肥皂水作脫模劑。

真空蒸鍍鋁涂層在純金屬涂層的制備上大多采用什么方法

真空蒸鍍鋁涂層在純金屬涂層的制備上，大都采用真空蒸發(fā)鍍法。而純金屬中鋁涂層，由于它用途廣泛，如制鏡工業(yè)中的以鋁代銀，集成電路中的鋁刻蝕導線；聚酸薄膜表面鍍鋁制作電容器；

滌綸聚酯薄膜鍍鋁的制作、防止紫外線照射的食品軟包裝；滌綸聚酯薄膜鍍鈷后再鍍鋁制作磁帶等。因此，今年來真空鍍鋁工業(yè)在國內(nèi)外不但發(fā)展迅速，而且，正向著濺射法、離子鍍法等鍍膜技術領域發(fā)展。

真空蒸鍍鋁薄膜可選用間歇式蒸發(fā)鍍膜，也可選用半連續(xù)式真空鍍膜機。其蒸發(fā)源可為電阻源，電子束源，也可以選用感應加熱式蒸發(fā)源，可依據(jù)蒸鍍膜材的具體要求而定。

真空蒸發(fā)鍍鋁涂層的工藝參數(shù)，主要包括蒸鍍室的壓力、沉積速率、基片溫度、蒸距等。如果從膜片基體上分布的均勻性上考慮，還應注意蒸發(fā)源對基片的相對位置及工件架的運動狀態(tài)等方面因素。例如，選用電子束蒸發(fā)源進行鋁涂層制備時，其典型的主要工藝參數(shù)可選用：鍍膜室工作壓力為2.6X10-4Pa、蒸發(fā)速率為2~2.5nm/s、基片溫度20℃、蒸距450nm、電子束槍電壓為9kV，電流為0.2A。電子束蒸鍍法所得到的膜厚分散度較大，即均勻性較差。這也是近年來真空鍍鋁膜有向著濺射法和離子鍍法發(fā)展制備鋁膜的趨勢原因之一。

真空鍍膜設備鍍膜原理

為了獲得真空，就必須用真空泵將燈管內(nèi)的氣體抽去，達到一定的真空度。但是獲得了真空并不意味著真空就能保持。事實上，即使不存在漏氣的燈管，在抽走管內(nèi)氣體之后，燈管的內(nèi)壁、電極等表面上都仍然吸附著大量的氣體：他們在一定的條件下會釋放出來，使燈管內(nèi)的真空度變底，所以在霓虹燈的制造過程中，還必須采用有關的真空技術把這些吸附氣體除去，確保玻璃管內(nèi)壁及燈管內(nèi)器件不會在使用過程中放氣，影響燈管的穩(wěn)定工作及使用壽命。

所以，在霓虹燈制造中，真空鍍膜設備真空技術是很重要的。燈管內(nèi)真空的破壞可以由于抽氣不徹底造成，或者由于溫度升高導致本材料放氣，電子、離子轟擊使材料和電極放氣造成，或者也可由管子的慢性漏氣所造成。要得到質(zhì)量穩(wěn)定、實用的霓虹燈，必須在原材料的選擇、零部件的加工、處理、電極的裝配以及后的排氣、封離等每一步驟中都考慮到真空技術的特殊要求。

真空鍍膜機真空氣體作用介紹

我們經(jīng)常聽到專業(yè)人士說，在選購真空鍍膜機設備的時候，一定要選擇多路出氣的機器，但是我們并不知道多路出氣是什么意思，并且氣體在鍍膜的過程中，啟到了什么作用，下面至成小編為大家詳細介紹一下真開工鍍膜機運行時，氣體的作用。

任何固體材料在大氣環(huán)境下都會溶解和吸附一些氣體，當材料置于真空狀態(tài)時就會因為脫附、解析而出氣。出氣的速率與材料中的氣體含量成正比。不同的材料解析的氣體成分及解析的溫度及時間是不同的。

各種泵對不同成分的氣體抽氣速率也是不一樣的。抽真空時,首先抽走的是容器中的大氣(這部份氣體很快被抽走,10-1Pa時爐內(nèi)氣體基本抽盡),然后是材料表面解吸的氣體、材料內(nèi)部向表面擴散出來的氣體,以及通過器壁滲透到真空中的氣體.因此在貨品進入爐內(nèi)之后，都要進行保溫除氣，因為貨品在進爐前會吸附一些雜質(zhì)氣體，我們要通過適當?shù)募訜?，讓這些氣體解析脫附貨品的表面。以不銹鋼為例，除了在它表面吸附的氣體之外，在不斷的加熱保溫過程中鋼內(nèi)部還會析出一些氣體，這些氣體的存在往往對薄膜的純度和顏色有較大的影響，對膜層附著力影響也很大。

因此真空鍍膜機鍍膜時，膜層的好壞，氣體啟著關鍵性的作用，是鍍膜環(huán)節(jié)不可或缺的一步。