氮化鈦的物理性質：熔點2950.6～3205.8℃，線膨脹系數(shù)為5.712～7.053×106(1/K)(25℃)，密度為5.435～5.447g/cm3，熱導率為25.081(W·m-1·K-1)(300～2000℃)，莫氏硬度為8～9。一般情況下，氮化鈦粉末的顏色為黃褐色，顏色為黑色的是超細氮化鈦粉末，顏色為黃色的是氮化鈦晶體，大量聚集的氮化鈦晶體有金黃色金屬光澤。

氮化鈦的化學性質：比較穩(wěn)定，與水和酸（鹽酸和硫酸）等均不發(fā)生反應，但它能融入氫fu酸，若氫fu酸中含有氧化劑，則氮化鈦會完全溶解在氫fu酸中。氮化鈦溶解在強堿溶液中會分解并釋放出氨氣。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

因此，如果要防止蒸發(fā)粒子的大量散射，在真空蒸發(fā)鍍膜設備中，真空鍍膜室的起始真空度必須高于10-2Pa。由于殘余氣體在蒸鍍過程中對膜層的影響很大，因此分析真空室內殘余氣體的來源，借以消除殘余氣體對薄膜質量的影響是重要的。真空室中殘余氣體分子的來源主要是真空鍍膜室內表面上的解吸放氣、蒸發(fā)源釋放的氣體、抽氣系統(tǒng)的返流以及設備的漏氣等原因所造成的。若鍍膜設備的結構設計及制造良好，則真空抽氣系統(tǒng)的返流及設備的漏氣并不會造成嚴重的影響。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

高精度真空鍍膜裝置，抽真空裝置包括真空泵和真空壓力傳感器，真空壓力傳感器設置于中央真空室內；新型高精度真空鍍膜裝置提高了鍍膜厚度控制精度，提高了產(chǎn)品加工工藝的重復性。真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術，在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。其被廣泛應用于生產(chǎn)光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍膜固體上，即襯底或基片表面，從而凝結形成固態(tài)薄膜的方法。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制