濺射鍍膜機(jī)濺射鍍技術(shù)優(yōu)點(diǎn)

濺射鍍膜機(jī)濺射鍍技術(shù)應(yīng)用  蒸發(fā)和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機(jī)，主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。由于鍍膜室為立式容器，所以它具有臥式鍍膜機(jī)的一切優(yōu)點(diǎn)，   又利于自重較大的、易碎的鍍件裝卡，更可方便地實(shí)現(xiàn)自動生產(chǎn)線，是替代傳統(tǒng)濕法水電鍍的更為理想的新一代真空鍍膜設(shè)備。真空磁控濺射鍍膜所謂濺射就是用荷能粒子（通常用惰性氣體的正離子）去轟擊固體（以下稱靶材）表面，從而引起靶材表面上的原子（或分子）從其中逸出的一種現(xiàn)象。本機(jī)鍍部分產(chǎn)品可不做底油。本機(jī)主 要特點(diǎn)配用改進(jìn)型高真空排氣系統(tǒng)，抽速快、、節(jié)電、降噪和延長泵使用壽命;實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)、磁控濺射、自動控制，操作簡單，工作可靠。

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磁控濺射

磁控濺射靶材的利用率可成為磁控濺射源的工程設(shè)計(jì)和生產(chǎn)工藝成本核算的一個參數(shù)。目前沒有見到對磁控濺射靶材利用率專門或系統(tǒng)研究的報(bào)道，而從理論上對磁控濺射靶材利用率近似計(jì)算的探討具有實(shí)際意義。對于靜態(tài)直冷矩形平面靶，即靶材與磁體之間無相對運(yùn)動且靶材直接與冷卻水接觸的靶，?靶材利用率數(shù)據(jù)多在20%~30%左右(間冷靶相對要高一些，但其被刻蝕過程與直冷靶相同，不作專門討論)，且多為估計(jì)值。歷經(jīng)30很多年的發(fā)展趨勢,磁控濺射技術(shù)性早已發(fā)展趨勢變成制取超硬、耐磨損、低摩擦阻力、抗腐蝕、裝飾設(shè)計(jì)及其電子光學(xué)、熱學(xué)等多功能性塑料薄膜的這種不能取代的方式。為了提高靶材利用率，研究出來了不同形式的動態(tài)靶，其中以旋轉(zhuǎn)磁場圓柱靶工業(yè)上被廣泛應(yīng)用，據(jù)稱這種靶材的利用率可超過70%，但缺少足夠數(shù)據(jù)或理論證明。常見的磁控濺射靶材從幾何形狀上看有三種類型：矩形平面、圓形平面和圓柱管? 如何提高利用率是真空磁控濺射鍍膜行業(yè)的重點(diǎn),圓柱管靶利用高,但在有些產(chǎn)業(yè)是不適用的,如何提高靶材利用,請到此一看的朋友,在下面留下你的見解,提供好的方法。

我國真空鍍膜機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和前景分析

當(dāng)前我國真空鍍膜設(shè)備行業(yè)等傳統(tǒng)制造業(yè)產(chǎn)能過剩已經(jīng)顯現(xiàn)，倒逼效應(yīng)顯著，國家大力發(fā)展環(huán)保產(chǎn)業(yè)，對傳統(tǒng)電鍍行業(yè)予以取締或轉(zhuǎn)型或限產(chǎn)，這正是離子鍍膜行業(yè)發(fā)展的大好時機(jī)。新技術(shù)、新設(shè)備、新工藝公司新開發(fā)的磁控、蒸發(fā)多用鍍膜機(jī)，配用改進(jìn)型高真空抽氣系統(tǒng)及全自動控制系統(tǒng)，抽速快、效率高、操作簡單、工作可靠。真空鍍膜的高性價比以及傳統(tǒng)電鍍對環(huán)境的污染迫使真空鍍膜成為了主流，各種類型各種鍍膜工藝的真空鍍膜設(shè)備不斷增加。

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