公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

玻璃反光解決方案

使用背光源，在玻璃下方用光源吧吧整個(gè)玻璃照亮可使玻璃不會(huì)反光在條件不允許使用背光源情況下使用 上光源 吧玻璃全部照亮，不要產(chǎn)生點(diǎn)光源得效果在機(jī)器視覺標(biāo)定時(shí)使用藍(lán)光效果會(huì)更好得標(biāo)定如果以上解決不了得話，可選用陶瓷標(biāo)定板，表面漫反射效果 不會(huì)反光，

用選定的圖像、圖形或物體，對(duì)處理的圖像（全部或局部）進(jìn)行遮擋，來(lái)控制圖像處理的區(qū)域或處理過(guò)程。用于覆蓋的特定圖像或物體稱為掩模或模板。光學(xué)圖像處理中,掩?？梢允悄z片、濾光片等。數(shù)字圖像處理中,掩模為二維矩陣數(shù)組,有時(shí)也用多值圖像。

在容柵電子光學(xué)微影技術(shù)性中，光罩表層的擋光圖樣會(huì)與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。另一個(gè)，當(dāng)施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時(shí)，光罩與光阻層會(huì)造成不確定性的間隙與間距，而導(dǎo)致光源的光學(xué)散射與繞射，從而導(dǎo)致曝i光的規(guī)格偏差，而且導(dǎo)致光阻層淺部一部分的側(cè)面曝i光范疇擴(kuò)張，因此沒法制做出深?yuàn)W長(zhǎng)寬比的光阻構(gòu)造。硬刮和軟刮：凹版印刷中的不同裝法在印刷中所產(chǎn)生的效果是不樣的。

掩膜版是對(duì)勻膠鉻版經(jīng)過(guò)光繪加工后的產(chǎn)品。勻膠鉻版(光掩膜基版)由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構(gòu)成的。通過(guò)光刻制版工藝,將微米級(jí)和納米級(jí)的精細(xì)圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。

根據(jù)基板材質(zhì)的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時(shí)所常用的光刻掩膜版。