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液壓升降藍式研磨機產(chǎn)品特點
液壓升降藍式研磨機產(chǎn)品特點 研磨效率很高,產(chǎn)品細度好 強大的動能驅(qū)動氧化鋯撥桿使腔體內(nèi)的研磨介質(zhì)產(chǎn)生不規(guī)則運動,相互之間高速碰撞、摩擦,使粉料粒徑快速變??;研磨細度普遍可達5um左右,部分產(chǎn)品可達亞微米甚至納米級。 操作方便、安全 設(shè)備通過油缸作為升降執(zhí)行器,通過油泵控制研磨裝置上升、停止、下降,操作簡單、穩(wěn)定;帶有不同形式的抱夾裝置,可以快速將研磨桶固定,防止桶在工作中發(fā)生位移造成安全事故。溫升小,產(chǎn)品穩(wěn)定所配料桶帶雙層冷卻夾套,在設(shè)備運行時通水冷卻,起到很好的冷卻效果,常規(guī)溫升小于10?;可以定制研磨腔體帶冷卻。 非標性強 液壓升降籃式研磨機電機運轉(zhuǎn)帶動撥桿和底部分散盤高速旋轉(zhuǎn),使分散盤上部及籃腔內(nèi)部形成真空,漿料被吸入籃式研磨腔內(nèi)。撥桿驅(qū)動腔內(nèi)的研磨介質(zhì)產(chǎn)生向各個方向的力,物料中的顆粒受到介質(zhì)不斷地碰撞及摩擦,粒徑變小,粒徑范圍變窄;分散盤的高速運轉(zhuǎn),產(chǎn)生渦流將腔內(nèi)物料抽吸出來,再循環(huán)至進料,具有非常顯著的分散混合效果,通過液壓泵工作驅(qū)動液壓柱塞升降,帶動整個傳動機構(gòu)和研磨裝置升降。
東研生產(chǎn)的兩種系列研磨機知識
東研生產(chǎn)的兩種系列研磨機知識 研磨機在高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面這幾種表面要求加工的工件上的研磨工藝突出,研磨機在寶石、晶片、不銹鋼、汽車等行業(yè)的表面處理應(yīng)用廣泛。 東研主要研發(fā)單面研磨拋光機和雙面研磨拋光機和翻轉(zhuǎn)機等研磨設(shè)備,單面研磨拋光機可廣泛應(yīng)用于各類材料的單面研磨拋光,特別是針對超薄工件、越大工件、易碎工件有明顯的加工優(yōu)勢。而雙面研磨拋光機可廣泛應(yīng)用于多種材料的雙面研磨拋光,研磨后可達到0.002毫米的平面誤差,使用性能穩(wěn)定。
淺說平面研磨機工作時間和速度的聯(lián)系
淺說平面研磨機工作時間和速度的聯(lián)系 平面研磨機工作的時間和速度這兩個研磨要素是密切相關(guān)的,與加工過程中工件所走過的路程成正比,研磨時間過長,不僅加工精度趨向穩(wěn)定不再提高,甚至會因過熱變形喪失精度,并使研磨效率降低。實踐表明,在研磨的初始階段,工件幾何形狀誤差的消除和表面光潔度的改善較快,而后則逐步緩慢下來。 通過平面研磨機工作原理的分析可知;研磨開始階段因有工件的原始粗鍵度及幾何形狀誤差,工件與研具接觸面積較小,使磨粒壓下較深。隨著研磨時間增加,磨粒壓下漸淺,通過工件橫截表面的磨粒增多,幾何形狀誤差很快變小而表面光潔度構(gòu)改善也較快。當基本消除幾何形狀誤差之后,工件與研具上的磨粒接觸較多,此時磨粒壓下深度較淺,各點切削厚度趨于均勻。研磨時間再長些,則通過工件橫截面磨粒數(shù)量增多,對工件精度的改善則變得緩慢了。超過一定的研磨時間之后,磨粒鈍化得更細,壓下更淺,切削能力也更低了,并逐漸趨向穩(wěn)定。 對粗研磨來說,為獲得較高的研磨效率,平面研磨機研磨時問主要應(yīng)根據(jù)磨粒的切削快慢來確定。對精研磨來說,實驗曲線表明,研磨時問在1~3分鐘范周,對研磨效果的改變已變緩,超過3分鐘,對研磨效果的提高沒有顯著變化。
平面拋光機和平面研磨機的具體區(qū)別
平面拋光機和平面研磨機的具體區(qū)別 同樣是金屬平面表面處理自動化機械設(shè)備,平面拋光機與平面研磨機到底有什么區(qū)別呢?今天小編就和大家來聊聊。平面拋光機和平面研磨機雖然有一字之差,但兩者的機械動作結(jié)構(gòu)基本相同。都是通過物理的方式,通過摩擦的方式產(chǎn)生切削力,將產(chǎn)品表面打磨平滑,從而達到拋光的目的。 雖然平面拋光機和自動拋光機的機械動作原理幾乎一樣,但兩者在實際中的應(yīng)用還是有著很大的差別的。 1.平面拋光機是通過發(fā)動機帶動磨盤轉(zhuǎn)動,并和在磨盤上自轉(zhuǎn)的工件產(chǎn)生摩擦,運用摩擦產(chǎn)生切削力,將工件表面凹凸不平的地方磨平,來達到拋光目的。平面拋光機適用于金屬平面(及非金屬材料)的研磨拋光及電鍍前的表面處理。可裝砂輪、麻輪、布輪、風輪、尼龍輪、纖維輪、千葉輪及砂帶輪等拋輪;可出砂光或鏡光,也可以拉絲出紋。用途也非常廣泛,可以適用于不同行業(yè)和不同材質(zhì)的平面拋光,主要是將各種材質(zhì)的工件進行表面精拋,使其達到一定的平面度,平行度和光潔度,以及更加美觀。 2.平面研磨機為精密研磨拋光設(shè)備,被磨、拋材料放于平整的研磨盤上,研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動,修正輪帶動工件自轉(zhuǎn),重力加壓或其它方式對工件施壓,工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦,來達到研磨拋光目的。平面研磨機利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒,通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工(如切削加工)。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料,加工的表面形狀有平面,內(nèi)、外圓柱面和圓錐面,凸、凹球面,螺紋,齒面及其他型面。其主要用于LED藍寶石襯底、光學玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。