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負(fù)光阻光刻膠報(bào)價(jià)量大從優(yōu)【賽米萊德】

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-31 05:39  






選擇光刻膠需要注意什么

光刻加工工藝中為了圖形轉(zhuǎn)移,輻照必須作用在光刻膠上,通過(guò)改變光刻膠材料的性質(zhì),使得在完成光刻工藝后,光刻版圖形被拷貝在圓片的表面。而加工前,如何選用光刻膠在很大程度上已經(jīng)決定了光刻的精度。盡管正性膠的分辨力是較好的,但實(shí)際應(yīng)用中由于加工類(lèi)型、加工要求、加工成本的考慮,需要對(duì)光刻膠進(jìn)行合理的選擇。

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光刻膠:半導(dǎo)體技術(shù)壁壘的材料之一

光刻是整個(gè)集成電路制造過(guò)程中耗時(shí)長(zhǎng)、難度大的工藝,耗時(shí)占IC制造50%左右,成本約占IC生產(chǎn)成本的1/3。光刻膠是光刻過(guò)程重要的耗材,光刻膠的質(zhì)量對(duì)光刻工藝有著重要影響。

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光刻膠介紹

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光刻膠是電子領(lǐng)域微細(xì)圖形加工關(guān)鍵材料之一,是由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑等主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下,其溶解度發(fā)生變化,經(jīng)適當(dāng)溶劑處理,溶去可溶性部分,然后得到所需圖像。 光刻膠作為技術(shù)門(mén)檻極高的電子化學(xué)品一直被國(guó)際企業(yè)壟斷。 隨著大力研發(fā)和投入, 國(guó)內(nèi)企業(yè)已逐步從低端 PCB 光刻膠發(fā)展至中端半導(dǎo)體光刻膠的量產(chǎn)。



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