中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備有哪些特點

中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異?；」夥烹姟Ｒ虼?，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類設(shè)備廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

柔性電子卷繞真空鍍膜設(shè)備

HCFLC系列卷繞鍍膜設(shè)備為各種各樣的柔性和可穿戴電子產(chǎn)品，傳感器，RFID標(biāo)簽，智能玻璃，智能包裝等提供了一種非常有競爭力和成本效益高的薄膜涂層技術(shù)。高質(zhì)量低電阻率銅或TCO層和結(jié)構(gòu)的應(yīng)用，在滿足當(dāng)今和未來市場需求的同時，成功地彌合了生產(chǎn)率和多功能性之間的差距。

HCFLC系列是生產(chǎn)和研發(fā)的良好選擇。幾乎無限的可能性，在安排多達六組可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)器和機器的能力，應(yīng)用大量的現(xiàn)場測量傳感器，使機器能夠在生產(chǎn)環(huán)境中生產(chǎn)，同時又是非常靈活和靈活的，當(dāng)作為一個研發(fā)機器使用。

這也使得該機成為諸如ITO膜、柔性印刷電路板（FPCB）、LOW-E或智能玻璃等應(yīng)用的。可旋轉(zhuǎn)磁控管，涂層寬度為2000毫米，可能的襯底輥直徑為500毫米，是高生產(chǎn)率的基礎(chǔ)。

此外，相鄰工藝段之間的可選氣體分離允許在一個過程中沉積各種各樣的金屬和電介質(zhì)層。

除了能夠在非反應(yīng)濺射工藝的同時運行反應(yīng)濺射工藝外，HCFLC系列還可以配備各種原位傳感器，用于連續(xù)、準確地監(jiān)測所需的物理層特性，如層電阻率、反射率或透射比。

pvd鍍膜設(shè)備鍍出的膜層出現(xiàn)異樣,是什么原因

之前有少數(shù)客戶會咨詢我們，為什么PVD鍍膜設(shè)備鍍出來的膜，偶爾會出現(xiàn)異樣的情況，問具體是什么原因。經(jīng)過我們技術(shù)人員上門檢查排查，原因各有不同，下面真空小編為大家講解真空鍍膜不良解析。

隨著消費水平的提升，人們對產(chǎn)品外觀要求也越來越更高，PVD鍍膜的應(yīng)用也越來越廣泛。PVD鍍膜設(shè)備也獲得越來越多的制造業(yè)廠家認可和喜愛，它的優(yōu)勢也是顯而易見的。大家都知道機器，真空鍍膜是把金屬或者金屬氧化物變成氣態(tài)的分子或原子使其沉積在鍍件表面形成鍍層的一種技術(shù)。和傳統(tǒng)的電鍍技術(shù)相比污染更小、能耗更低，所需的成本較低，裝飾效果和金屬感都比較強。但是大家也都知道它的缺點，PVD電鍍工藝不良率高、生產(chǎn)效率低、膜后不穩(wěn)定以使顏色穩(wěn)定性差等，這是整個行業(yè)的痛點。隨著后期技術(shù)不斷的發(fā)展，環(huán)保要求門檻不斷提高，傳統(tǒng)電鍍逐漸將被替代及消費者對產(chǎn)品外觀的提高，真空鍍膜技術(shù)在未來會有更廣闊的發(fā)展前景。