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大型磁控濺射鍍膜設(shè)備優(yōu)惠報(bào)價(jià)【至成真空科技】

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-09 10:24  









至成真空技術(shù)工程有限公司是一家專業(yè)研究制造生產(chǎn)真空鍍膜設(shè)備及其它真空相關(guān)設(shè)備的國家高新科技企業(yè)。公司本著“專注研究鍍膜工藝,提供的產(chǎn)品及服務(wù)”的理念,贏得國內(nèi)外客戶的滿意及信任,并成功打開國外市場。我們將會秉承客戶的認(rèn)可,將鍍膜機(jī)研發(fā)事業(yè)推向新的高峰。


本公司制造的真空鍍膜設(shè)備系列:電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、多弧離子真空鍍膜設(shè)備、多功能真空鍍膜專用設(shè)備以及真空焊接專用設(shè)備等。各類真空鍍膜設(shè)備廣泛用于家電電器、鐘表、玩具、車燈燈罩、手機(jī)、工具、陶瓷、瓷磚、塑料、玻璃、五金、光學(xué)、電子等高科技產(chǎn)業(yè)方面,已成功的為客戶開發(fā)出滿足各種不同要求的鍍膜工藝方案。



真空磁控濺射鍍膜機(jī)用戶設(shè)置具體設(shè)置



按“用戶設(shè)置”鈕進(jìn)入真空磁控濺射鍍膜機(jī)的用戶設(shè)置界面,里面的數(shù)值除了時(shí)間參數(shù)可以根據(jù)機(jī)器運(yùn)行情況作適當(dāng)調(diào)整外,其余參數(shù)經(jīng)調(diào)試設(shè)定后一般不作修改。各參數(shù)功能如下:

主輥加速時(shí)間設(shè)定:用于設(shè)定主輥從低速度0m/min加速至高速度400m/min的所需時(shí)間。單位:5秒。當(dāng)輸入數(shù)值為4時(shí),加速時(shí)間是20秒。

主輥減速時(shí)間設(shè)定:用于設(shè)定主輥從高速度400m/min減速至低速度0m/min的所需時(shí)間。單位:5秒。

收卷張力零速保持:用于設(shè)定零速張力保持時(shí),收卷的力矩輸出值。

放卷張力零速保持:用于設(shè)定零速張力保持時(shí),放卷的力矩輸出值。

編碼器輥直徑輸入:此數(shù)值為編碼器輥直徑的實(shí)際測量值。此數(shù)值必須正確無誤,以確保設(shè)備運(yùn)行過程的穩(wěn)定性。

放卷初徑誤差值正設(shè)定:用于設(shè)定卷繞系統(tǒng)啟動運(yùn)行時(shí),“放卷初始卷徑輸入”值允許高于實(shí)際測量值的誤差值。

放卷初徑誤差值負(fù)設(shè)定:用于設(shè)定卷繞系統(tǒng)啟動運(yùn)行時(shí),“放卷初始卷徑輸入”值允許低于實(shí)際測量值的誤差值。

擺輥動作時(shí)間設(shè)定:用于設(shè)定擺臂在自動控制模式時(shí),擺輥電眼檢測到信號后擺臂自動往外退的動作時(shí)間。


鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢



當(dāng)今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種,一種是化學(xué)氣象沉積,一種是化學(xué)鍍膜(CVD),一種是物理氣象沉積,也就是真空鍍膜(PVD)。

化學(xué)鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)所需其他氣體引入反應(yīng)室,在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在化學(xué)薄膜的過程中,容易產(chǎn)生溶液污染,如果鍍層表面雜質(zhì)多,鍍出來的效果不好。

化學(xué)鍍膜需要的反應(yīng)溫度很高,一般要控制在1000℃左右,但很多基體材料是無法受此高溫,及時(shí)硬質(zhì)合金,雖然能經(jīng)受高溫,但在化學(xué)鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會造成晶粒粗大,引起脆性相,性能變壞。如果在硬質(zhì)合金上鍍TiN,晶體擴(kuò)散出來的碳會與溶液發(fā)生反應(yīng)形成脫碳層,該層韌性差,抗彎強(qiáng)度低,造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機(jī)很好的解決了化學(xué)鍍膜產(chǎn)生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電技術(shù),利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面,解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問題,不會產(chǎn)生有毒或污染物質(zhì),鍍出來的膜層硬度更高,耐磨性和腐蝕性好,性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下,適用于多種基體材料,可制備多姿多彩的膜層,鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2~10倍。


真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法

真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法 1、目視監(jiān)控:使用眼睛監(jiān)控,因?yàn)楸∧ぴ谏L的過程中,由于干涉現(xiàn)象會有顏色變化,我們就是根據(jù)顏色變化來控制膜厚度的,此種方式有一定的誤差,所以不是很準(zhǔn)確,需要依靠經(jīng)驗(yàn)。 2、極值監(jiān)控法:當(dāng)膜厚度增加的時(shí)候其反射率和穿透率會跟著起變化,當(dāng)反射率或穿透率走到極值點(diǎn)的時(shí)候,就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長(入)的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大,因?yàn)楫?dāng)反射率或者透過率在極值附近變化很慢,亦就是膜厚ND增加很多,R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。 3.定值監(jiān)控法:此方法利用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長四分之一波位,然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算在波長一時(shí)總膜厚之反射率是多少,此即為停止鍍膜點(diǎn)。


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