原來磁場強弱雖不好進行控制，但同時工件也在同時運轉，且是靶材原子多次沉積此案結束鍍膜工序，在一段時間內雖然某些部位厚，某些部位薄，但另一個時間內，磁場強的作用下在原來薄的部位沉積上厚的，在厚的部位沉積上薄的，如此多次，整個膜層成膜后，均勻性還是比較不錯的。

亞氣的送氣均勻性也會對膜層均勻性產生影響，其原理實際上和真空度差不多，因為亞氣的進入，真空室內壓強會產生變化，均勻的壓強大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機膜厚度的均勻性。

東莞市仁睿電子科技有限公司主營加工：光學鍍膜、光學玻璃鍍膜、光學鏡片鍍膜、真空光學鍍膜、光學真空鍍膜、染色加工、塑料染色加工、杯子漸變加工、塑料漸變加工、亞克力面板、視窗鏡片、PC手機殼。

光學鍍膜零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。

光學鍍膜的前處置做工請求比光學鍍膜越發(fā)兇險。這是由于在光學鍍膜過程中試件作為陰極，能夠經過調理陰極的極化度等各項參數來得到鍍層。