硬質(zhì)陽極氧化和普通陽極氧化的區(qū)別    單說三個方面：  1、溫度不同：普通18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質(zhì)越高?？梢哉f，樣品制備的每一個步驟都對最終的復膜質(zhì)量、組織顯示及色彩豐富程度有著不同的影響，缺一不可。  2、濃度差異：普通氧化一般20%左右，硬質(zhì)一般在15%或更低。  3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-3A/dm2  以上是操作條件方面的差異。

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不過，在實際工作中，對于陽極復膜成像原理的解釋說明存在一些混亂。耐磨性,低溫(-4~10℃)之硫酸電解液陽極處理可得非常硬的陽極鍍層具有耐磨特性,應(yīng)用在齒輪,活塞,葉片,燃料噴角3。一方面，很多人認識膚淺，存在概念錯誤或者操作錯誤。另一方面，我們對于氧化膜形成的過程、結(jié)構(gòu)的認識依然沒有清晰；進而，金相分析過程中應(yīng)用到的陽極氧化技術(shù)的基礎(chǔ)理論也就缺少合理的支撐。同時，本文并無定論，不要誤解。陽極氧化廠，陽極氧化工藝，陽極氧化檢測，金屬陽極氧化，鋁合金陽極氧化

在進一步分析陽極復膜成像原理前有必要特別說明：一定要避免混淆不同光學技術(shù)的成像原理。其裝置中陰極為在電解溶液中化學穩(wěn)定性高的材料，如鉛、不銹鋼、鋁等。這是因為，有些研究人員將電解陽極化處理后在偏光加“波片”條件下觀察時的彩色0圖像效果混同于微差干涉襯度（DIC）技術(shù)的彩色0圖像效果，或者簡單混同于薄膜干涉成像技術(shù)的效果。通過下面的表格可以簡單地了解陽極復膜成像、成色與其它不同成像技術(shù)的差異。陽極氧化廠，陽極氧化工藝，陽極氧化檢測，金屬陽極氧化，鋁合金陽極氧化