真空鍍膜廠家依據(jù)技術請求挑選鍍制方法及方法，如電阻蒸騰(鎢絲、鉬舟、石墨舟)磁控源(同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等)以靶材原料及尺度多弧源(Ф60，Ф80直徑靶材，氣動、電動的引弧等)，真空丈量可挑選數(shù)字式智能真空計及其優(yōu)異的丈量規(guī)管，及其它丈量儀器，如主動壓強操控儀等。膜厚丈量可選用方塊電阻丈量儀，透過率計等。充氣方法可選用質量流量計、浮子流量計 針閥及相應的充氣閥門，并可挑選多路充氣管路及相應流量參數(shù)。

真空鍍膜的特點

　　真空鍍膜和其他鍍膜方式相比較具有以下特點：

　　真空鍍膜可以在固態(tài)基體上鍍制金屬，合金，半導體薄膜及各種化合物薄膜拜，薄膜的成分可以在大范圍內調控。

　　東莞塑膠電鍍廠的真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。
PVD鍍膜加工生產故障是每個PVD鍍膜企業(yè)都會遇到的問題，排除故障是PVD鍍膜技術人員的重要職責。PVD鍍膜實踐出真知，PVD鍍膜生產的實踐性很強。要在調控PVD鍍膜生產的全過程中做到遇障不驚，PVD鍍膜途徑就是在生產實踐中摸爬滾打、堅韌實干善于思考，不斷探索和積累等。