平面研磨機的特點介紹

平面研磨機為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到研磨拋光目的。產(chǎn)生磨削作用的磨料顆粒有兩種來源，一種來自于不斷外加(常稱為游離磨料);另一種方法是將磨料顆粒固定在研磨盤中(常稱為固著磨料)。大孔的研磨頭的擴與收縮主要是通過相對于研磨油石之間的調(diào)節(jié)所完成的，主要是依賴錐芯相對于研磨油石的工件斜面作為軸向調(diào)節(jié)進行完成，斜面的角度所具有的一致性，能夠確保油石的擴漲量的一致性，對于提高研磨工件的角度，特別是加工工件表面精度都有好處。

研磨盤平面度是研磨的基準(zhǔn)，是得到精密工件平面的保證。在研磨的過程中，研磨盤的平面度會下降，主要原因研磨盤的內(nèi)外線速度不同，磨損不一致造成。研磨盤需定期修整平面。修整的方法有兩種:1是采用基準(zhǔn)平面電鍍金剛石修整輪來修面，由于電鍍金剛石修整輪基本不磨損，可得到較高的平面度。2是通過修整機構(gòu)修面后，也可獲得較好的平面度，這種修整的原理與車床原理一致，研磨盤旋轉(zhuǎn)，一個可前后運動的刀在刀桿的帶動對研磨進行切削獲得平面。平面研磨機和單面研磨機的概念用途參數(shù)淺析單面研磨機是主要作為石英晶體片、硅、鍺片、玻璃、陶瓷片、活塞環(huán)、閥板、閥片、軸承、鉬片、藍(lán)寶石、等各種片狀金屬、別的圓盤類零件的研磨，非金屬零件的單面研磨。

研磨機的主要類型有圓盤式研磨機、轉(zhuǎn)軸式研磨機和各種專用研磨機。研磨機控制系統(tǒng)以PLC為控制核心，文本顯示器為人機對話界面的控制方式。人機對話界面可以就設(shè)備維護、運行、故障等信息與人對話;操作界面直觀方便、程序控制、操作簡單。多方位安全考慮，非正常狀態(tài)的誤操作無效。實時監(jiān)控，故障、錯誤報警，維護方便 研磨，是利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工(如切削加工)。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。6．應(yīng)用人機界面（PT）與PLC通訊，一方面顯示運行參數(shù)，另一方面通過其觸摸鍵調(diào)整設(shè)定各項工藝參數(shù)，主操作由普通鍵鈕完成。加工精度可達(dá)IT5~01，表面粗糙度可達(dá)Ra0.63~0.01微米，

屬于精按照研磨盤的個數(shù)，可分為:單面研磨機和雙面研磨機。

按照研磨盤尺寸，可分為:380研磨機，460研磨機，610研磨機，910研磨機等。

平面研磨機受到越來越多青睞的五個理由

近的研磨行業(yè)發(fā)展勢頭迅猛，無論是加工企業(yè)還是生產(chǎn)平面研磨設(shè)備的企業(yè)，也相繼出市。在這里設(shè)備中，平面研磨機作為經(jīng)典設(shè)備，受到了越來越多的青睞。之所以有這個勢頭，原因有五：

1.需求大：

在平面工件、球形工件及異形工件中，平面工件相比來說，其數(shù)量則打得到，因此，用以加工平面工件的平面研磨機的需要同樣大得多。大量的需求拉動了整個研磨行業(yè)的發(fā)展。

2.加工易：

平面工件的加工，相比起其他研磨設(shè)備結(jié)構(gòu)相對簡單，加工起來相對更容易。制作加工平面工件的平面研磨設(shè)備自然就多了。

3.產(chǎn)品及技術(shù)發(fā)展成熟。

工作原理是被磨、拋材料放于研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓的方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到研磨拋光目的。

4.技術(shù)先進。

據(jù)上所述，平面研磨設(shè)備發(fā)展較早，因而其技術(shù)也相對更成熟。再加上包括方達(dá)在內(nèi)的研磨企業(yè)不斷開發(fā)新產(chǎn)品新工藝，其藍(lán)寶石研磨機技術(shù)已經(jīng)達(dá)到了國內(nèi)先進水平，鏡面拋光機技術(shù)已經(jīng)接近國際水平。

5.人才多。

這個行業(yè)里人才多，拿目前業(yè)內(nèi)傳出iPhone 6的顯示屏采用藍(lán)寶石后，很快某些公司便研發(fā)出了新的系列藍(lán)寶石研磨機產(chǎn)品，據(jù)說也一半的成本價代替了過去進口的產(chǎn)品。

有了以上的五個理由做保障，平面研磨機的發(fā)展也自然蒸蒸日上，其經(jīng)典產(chǎn)品自然也能越發(fā)受到青睞

平面研磨機對工件進行研磨拋光加工的步驟

1、利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工(見切削加工)、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其它型面。加工精度可達(dá)IT5～01，表面粗糙度可達(dá)R 0.63～0.01微米。如果探針位置過于向下，會觸碰上盤砂輪背面則需要調(diào)整探針高度，使上盤轉(zhuǎn)入、轉(zhuǎn)出時，探針不會被砂輪背面機體碰到而受到損壞。

2、研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研 3類。

①濕研：又稱敷砂研磨，把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動，形成切削運動。

②濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。

③干研：又稱嵌砂研磨，把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。干研常用于精研磨，所用微粉磨料粒度細(xì)于W7。

④半干研：類似濕研，所用的研磨液是糊狀研磨膏。研磨既可用手工操作，也可在平面研磨機上進行。工件在研磨前須先用其它加工方法獲得較高的預(yù)加工精度，所留研磨余量一般為5～30微米。

3、研具是使工件研磨成形的工具，同時又是研磨液的載體，硬度應(yīng)低于工件的硬度，又有一定的耐磨性，常用灰鑄鐵制成。濕研研具的金相組織以鐵素體為主；圓盤式研磨機的分類圓盤式研磨機分單盤和雙盤兩種，以雙盤研磨機應(yīng)用最為普通。干研研具則以均勻細(xì)小的珠光體為基體。研磨M5以下的螺紋和形狀復(fù)雜的小型工件時，常用軟鋼研具。研磨小孔和軟金屬材料時，大多采用黃銅、紫銅研具。研具應(yīng)有足夠的剛度，其工作表面要有較高的幾何精度。研具在研磨過程中也受到切削和磨損，如操作得當(dāng)，它的精度也可得到提高，使工件的加工精度能高于研具的原始精度。

4、正確處理平面研磨機進行研磨的運動軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中，一般要求：

①工件相對研具的運動，要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近；

②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面，以利于研具均勻磨損；

③運動軌跡的曲率變化要小，以保證工件運動平穩(wěn)；

④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱，研磨一般在低壓低速條件下進行。粗研的壓力不超過 0.3兆帕，精研壓力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般為20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。

5、互相配合的工件常采用配研方法。配研前，兩工件先需要經(jīng)過單件研磨，然后在兩工件配合表面間加入研磨液，兩工件互為研具，通過配研消除阻礙精密配合的微觀峰部，使配合表面相互吻合。

圓盤式研磨機的分類

圓盤式研磨機分單盤和雙盤兩種，以雙盤研磨機應(yīng)用為普通。在雙盤研磨機上，多個工件同時放入位于上、下研磨盤之間的保持架內(nèi)，保持架和工件由偏心或行星機構(gòu)帶動作平面平行運動。下研磨盤旋轉(zhuǎn)，與之平行的上研磨盤可以不轉(zhuǎn)，或與下研磨盤反向旋轉(zhuǎn)，并可上下移動以壓緊工件（壓力可調(diào)）。此外，上研磨盤還可隨搖臂繞立柱轉(zhuǎn)動一角度，以便裝卸工件。雙盤研磨機主要用于加工兩平行面、一個平面(需增加壓緊工件的附件)、外圓柱面和球面（采用帶V形槽的研磨盤）等。加工外圓柱面時,因工件既要滑動又要滾動，須合理選擇保持架孔槽型式和排列角度。單盤研磨機只有一個下研磨盤，用于研磨工件的下平面，可使形狀和尺寸各異的工件同盤加工，研磨精度較高。有些研磨機還帶有能在研磨過程中自動校正研磨盤的機構(gòu)。雙面研磨機工作原理專業(yè)講解雙面研磨機主要由支架、軸承座、研磨座、動磨盤、定磨盤、活動研磨蓋、皮帶輪及電機組成,雙面研磨機主要用于中等度礦石及水泥熟料,是冶金、地質(zhì)、建材、化工等行業(yè)實驗室或化驗室的主要設(shè)備之一,操作方便,防塵性能好,外表美觀。