鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀

1.   光路形式：Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀

2.   光室恒溫：(30±0.2)℃      

3.   光柵類型：離子刻蝕全息平面光柵

4.   分辨率：不大于0.007nm  

5.   刻線密度：3600g/mm          

6.   高頻發(fā)生器震蕩頻率：40.68MHz   功率穩(wěn)定度：0.1%（長期25℃典型值）

7.   震蕩類型：自激式        

8.   進樣方式：蠕動泵進樣

配有多種霧室（旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室）

9.   霧1化器：同心霧化1器

10. 重復性：RSD ≤1.0%

11. 穩(wěn)定性：RSD ≤2.0%（2小時）

12. 冷卻氣：10-20L/min

13. 輔助氣：0-1.5 L/min

14. 載氣：0.4-1L/min

15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高）

16. 重量：240公斤

鋼研納克：固態(tài)光源ICP，國產單道掃描ICP進入固態(tài)光源時代

穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、，全自動負載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應各種復雜基體樣品及揮發(fā)性的測試，具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，的位置重現(xiàn)。

具有低功率待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節(jié)約使用成本。

實時監(jiān)控儀器運行參數(shù)，以太網及CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊可靠。

 

鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

Plasma2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”支持下研發(fā)的二維全譜高分辨ICP光譜儀，是國產全譜ICP光譜儀革命性產品，曾斬獲中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會“自主創(chuàng)新金獎”等一系列榮譽，在業(yè)界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業(yè)設計，優(yōu)異穩(wěn)定的測試性能源于納克近四十年ICP行業(yè)經驗。Plasma2000擁有

1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，徑向觀測，具有穩(wěn)健的檢測能力。

2、 有效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

3、 高速面陣CCD采集技術，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實現(xiàn)“全譜直讀”。

4、 功能強大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

可廣泛應用于冶金、地質、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。