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高純水設(shè)備
高純水設(shè)備,作為制取超純水的設(shè)備,作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備,可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè),半導(dǎo)體工業(yè),發(fā)電工業(yè),制藥行業(yè)和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補給水,以及其它應(yīng)用高純水。
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高純水設(shè)備工作原理
1.水進入 EDI 系統(tǒng),主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部,而另一部分沿模板外側(cè)流動,以洗去透出膜外的離子。
2.樹脂截留水中的溶存離子。
3.被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運動,陽離子向負極方向運動。
4.陽離子透過陽離子膜,排出樹脂/膜之外。
5.陰離子透過陰離子膜,排出樹脂/膜之外。
6.濃縮了的離子從廢水流路中排出。
7.無離子水從樹脂/膜內(nèi)流出。
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高純水設(shè)備的運行維護
高純水設(shè)備的良好的長期運行不僅依賴于系統(tǒng)的初期設(shè)計,而且取決于正確的運行和維護。這包含系統(tǒng)的初期啟動和運行過程中的啟動/停機。為了保持系統(tǒng)的長期良好運行,需要對系統(tǒng)運行數(shù)據(jù)進行定期記錄,以便日后日常運行維護。而且日常運行維護數(shù)據(jù)對于在設(shè)備故障判斷和決定采取何種措施方面有重要意義。
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