真空鍍膜主要利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材du(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氣離子化,造成靶與氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。

真空鍍膜不銹鋼真空鍍膜加工

真空鍍膜的優(yōu)點

TiN

中文名:氮化鈦;

顏色:金色;

硬度:2300HV;

摩擦系數(shù):0.23VSNi;

zui高工作溫度:580℃;

優(yōu)點:增加表面硬度、減少摩擦力;可低溫涂層，適合低溫零件;避免刀口之積屑現(xiàn)象;廣泛應用於鋼料成型加工。

  電鍍加工廠告訴你電鍍是什么？，希望對大家有所幫助。

  電鍍：1：利用電解工藝，將金屬或合金沉積在鍍件表面，形成金屬鍍層的表面處理技術。 所屬學科：電力（一級學科）；配電與用電（二級學科） 定義2：利用電解在制件表面形成均勻、致密、結合良好的金屬或合金沉積層的過程。 所屬學科：機械工程（一級學科）；表面工程（二級學科）；電鍍與化學鍍（三級學科）