物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過(guò)氣相過(guò)程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡(jiǎn)單、省材料、無(wú)污染；獲得的膜層膜基附著力強(qiáng)、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點(diǎn)。

廣泛用于機(jī)械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤(rùn)、超導(dǎo)等薄膜。

氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì)，通過(guò)物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過(guò)程的原理不同，氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類。

單色、漸變色：拋光/噴砂/拉絲→除油→陽(yáng)極氧化→中和→染色→封孔→烘干

②拋光/噴砂/拉絲→除油→陽(yáng)極氧化1 →鐳雕→陽(yáng)極氧化2 →封孔→烘干

技術(shù)特點(diǎn):

1、提升強(qiáng)度,

3、實(shí)現(xiàn)無(wú)鎳封孔，滿足歐、美等國(guó)家對(duì)無(wú)鎳的要求。

技術(shù)難點(diǎn)及改善關(guān)鍵點(diǎn)：

陽(yáng)極氧化的良率水平關(guān)系到最終產(chǎn)品的成本，提升氧化良率的重點(diǎn)在于適合的氧化劑用量、適合的溫度及電流密度，這需要結(jié)構(gòu)件廠商在生產(chǎn)過(guò)程中不斷探索，尋求突破。

對(duì)于金屬來(lái)說(shuō)，為了提高金屬的使用性能，廠家都會(huì)對(duì)金屬進(jìn)行表面處理進(jìn)行提高。我們?nèi)粘Ｉ钪校Ｒ?jiàn)的金屬表面處理技術(shù)有：酸洗純化處理、電解拋光處理、除油除銹處理、化學(xué)拋光處理、電鍍處理以及化學(xué)處理。

1、酸洗鈍化處理：

是指將金屬零件浸入酸洗鈍化液中直至工件表面變成均勻一直的銀白色即可完成工藝，不僅操作簡(jiǎn)單，而且成本低廉,酸洗鈍化液可以反復(fù)循環(huán)使用。

2、電解拋光處理：

該技術(shù)是指電解拋光又稱電化學(xué)拋光，是指將工件放在通電的溶液中，以提高金屬工件表面的平整性，并使之產(chǎn)生光澤的加工過(guò)程。幾乎所有金屬皆可電解拋光，如不銹鋼、碳鋼、鈦、鋁合金、銅合金、鎳合金等，但以不銹鋼之應(yīng)用最廣。通過(guò)正負(fù)極的電流、電解拋光液的同共作用下來(lái)改善金屬表面的微觀、幾何形狀、降低金屬表面粗糙度，從而達(dá)到工件表面光亮平整的目的。