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鉻——高光潔度的后處理
a鉻最為常見的存在形式是作為合金元素用于不銹鋼中,來增強(qiáng)不銹鋼的硬度。鍍鉻工藝通常分為三種類型:裝飾性鍍層、硬質(zhì)鉻鍍層以及黑色鉻鍍層。鉻鍍層在工程領(lǐng)域中應(yīng)用相當(dāng)廣泛,裝飾性鉻鍍層通常作為最表層鍍于鎳層外面,鍍層具有精致細(xì)膩如鏡面一般的拋光效果。作為一道裝飾性后處理工序,鉻鍍層厚度僅為0.006毫米。在打算采用鉻鍍層工藝的時(shí)候,一定要充分考慮到這一工藝的危險(xiǎn)性。近十年來,六價(jià)裝飾性鉻水被三價(jià)鉻水所取代的趨勢越來越明顯,因?yàn)榍罢呔哂蟹浅?qiáng)的致癌性,而后者則被認(rèn)為毒性相對小一些。
材料特性:光潔度非常高、優(yōu)良的防腐蝕性能、堅(jiān)硬耐用、易于清洗、摩擦系數(shù)低。
典型用途: 裝飾性鍍鉻是許多汽車元件的鍍層材料,包括車門把手以及緩沖器等,除此之外,鉻還應(yīng)用于自行車零部件、浴室水龍頭以及家具、廚房用具、餐具等。硬質(zhì)鍍鉻更多的用于工業(yè)領(lǐng)域,包括作業(yè)控制塊中的隨機(jī)存儲器、噴氣機(jī)發(fā)動機(jī)元件、塑料模具以及減震器等。黑色鍍鉻主要用于樂器裝飾以及太陽能利用方面。
物理氣相沉積(PVD)
物理氣相沉積是指在真空條件下,用物理的方法,使材料汽化成原子、分子或電離成離子,并通過氣相過程,在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。
物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。
物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛;工藝簡單、省材料、無污染;獲得的膜層膜基附著力強(qiáng)、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點(diǎn)。
廣泛用于機(jī)械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤、超導(dǎo)等薄膜。
氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì),通過物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。
根據(jù)沉積過程的原理不同,氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類。
單色、漸變色:拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化→中和→染色→封孔→烘干
②拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化1 →鐳雕→陽極氧化2 →封孔→烘干
技術(shù)特點(diǎn):
1、提升強(qiáng)度,
3、實(shí)現(xiàn)無鎳封孔,滿足歐、美等國家對無鎳的要求。
技術(shù)難點(diǎn)及改善關(guān)鍵點(diǎn):
陽極氧化的良率水平關(guān)系到最終產(chǎn)品的成本,提升氧化良率的重點(diǎn)在于適合的氧化劑用量、適合的溫度及電流密度,這需要結(jié)構(gòu)件廠商在生產(chǎn)過程中不斷探索,尋求突破。
80 年代又開發(fā)了磷酸鋯和磷酸鈦配方,被廣泛應(yīng)用于易拉罐表面鈍化。其無鉻鈍化產(chǎn)品Alodine(阿洛丁)5200 的處理時(shí)間為5 ~ 120 s,溫度20 ~ 30 °C,處理液pH 為3.0 ~ 3.6,所獲得的涂層由30% ~ 40%的鋯(鈦)鹽、25% ~ 35%的鋁的氧化物、5% ~ 15%的鋁的氟化物和2% ~ 30%的有機(jī)聚合物組成。其特點(diǎn)是:無重金屬,降低了污水處理的成本,減少了重金屬對環(huán)境的污染,改善了操作工人的作業(yè)環(huán)境;基于鋯鹽和鈦鹽以及聚合物等,取代了重金屬鈍化膜;室溫處理,節(jié)約能源;鈍化時(shí)間短,提高了生產(chǎn)效率;既可用于噴淋也可用于浸漬;為有機(jī)涂層提供了的基底。
鋯鈦體系目前在鋁罐、室內(nèi)散熱器和鋁輪轂等方面已獲得了應(yīng)用,但其耐蝕性能仍低于鉻酸鹽膜,而且經(jīng)此工藝處理后的轉(zhuǎn)化膜沒有顏色,給工業(yè)生產(chǎn)帶來了一定的困難,因而在高耐候性和高耐蝕性要求的產(chǎn)品上還很少應(yīng)用。