對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。

蒸發(fā)源有三種類型。更換模具時首要封閉電源，沖床運動部門中止運轉后，方可開端安裝、調試模具。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應加熱源：用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質。③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。

作為本實用新型手機指環(huán)扣的技術方案的一種改進，所述指環(huán)扣上還設置有上蓋，所述上蓋的邊緣上設置有第二凸邊，所述指環(huán)的內圈上設置有第二內軌，通過第二內軌與第二凸邊的配合，把上蓋安裝第二內軌內。

作為本實用新型手機指環(huán)扣的技術方案的一種改進，所述第二凸邊為階梯型凸邊，實現上蓋與指環(huán)可拆卸連接。

作為本實用新型手機指環(huán)扣的技術方案的一種改進，所述旋轉蓋與所述指環(huán)在所述旋轉蓋的邊緣鉸接。

本實用新型采用這樣的結構設置，磁鐵底座2與鐵制指環(huán)4之間采用磁能吸附方式可實現數碼產品360度無死角使用，同時采用吸附原理，便于磁鐵底座2與鐵制指環(huán)4的分離和隱藏，不使用的情況下也不影響美觀。

更具體而言，所述磁鐵底座2外層設有配套的外觀鋁件3,外觀鋁件3的外圓直徑與鐵制指環(huán)4的內圓直徑相等。采用這樣的結構設置，在不使用的情況下，可以將鐵制指環(huán)4套于外觀鋁件3上，起到隱藏鐵制指環(huán)4的效果，不影響其外形的美觀。