PVD真空鍍膜有三種方式，即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍。在其中，揮發(fā)物質(zhì)的分子被電子器件撞擊弱電解質(zhì)后，以正離子沉積在固態(tài)表面，稱(chēng)之為離子鍍。這類(lèi)技術(shù)是D.麥托阿斯特里于1963年明確提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與負(fù)極磁控濺射技術(shù)的融合。真空泵離子鍍膜又可分成電孤離子鍍、磁控濺射離子鍍、中空負(fù)極離子鍍膜三種方法。

請(qǐng)問(wèn)什么是PVD鍍膜？什么是PVD鍍膜機(jī)？PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對(duì)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是較快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)代先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。

pvd真空蒸發(fā)鍍膜：原理及特點(diǎn)。原理：熱蒸發(fā)是在真空狀況下，將所要蒸鍛的材料利用電阻加熱達(dá)到熔化溫度，使原子蒸發(fā)，到達(dá)并附著在基板表面上的一種鍛膜技術(shù)。特點(diǎn)：設(shè)備簡(jiǎn)單、操作容易；海膜純度高，質(zhì)量好，厚度可控；速率快、效率好、可用掩膜獲得清晰圖形；薄膜生長(zhǎng)機(jī)理比較單純。缺點(diǎn)：不易獲得結(jié)晶結(jié)構(gòu)的薄膜；粘膜與基片附著力??；工藝正復(fù)性不夠好。