隨著全球制造業(yè)高速發(fā)展，真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用越來越廣泛。鍍膜技術(shù)在傳感器方面的應(yīng)用在傳感器中，多采用那些電氣性質(zhì)相對于物理量、化學(xué)量及其變化來說，極為敏感的半導(dǎo)體材料。從半導(dǎo)體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業(yè)的發(fā)展來看，對真空鍍膜設(shè)備、技術(shù)、材料需求都在不斷增加，包括制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜;數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀(jì)錄儲存膜;充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜;計算機顯示用的感光膜;TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透膜;建筑、汽車行業(yè)上應(yīng)用的玻璃鍍膜和裝飾膜;包裝領(lǐng)域用防護膜、阻隔膜;裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;工、模具表面上應(yīng)用的耐磨超硬膜;納米材料研究方面的各種功能性薄膜等。

真空電鍍設(shè)備膜厚的不均勻問題

無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。1、鍍膜技術(shù)在裝飾品方面的應(yīng)用隨著經(jīng)濟的發(fā)展和生活水平的提高，人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內(nèi)外裝飾件、五金箱包、手機殼、手機視屏、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。如果真空電鍍設(shè)備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠(yuǎn)離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結(jié)構(gòu)和蒸發(fā)源的恰當(dāng)選擇可以使這些影響化。

在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造廠家提供高性能的小規(guī)格、簡便型光學(xué)鍍膜系統(tǒng)，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化小化等方面。

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應(yīng)用小規(guī)格設(shè)備進(jìn)行光學(xué)鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉(zhuǎn)變成為純技術(shù)問題。鍍膜技術(shù)在飛機防護涂層方面的應(yīng)用飛機的鈦合金緊固件，原來采用電鍍方法鍍鎘。因此，選用現(xiàn)代化光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的關(guān)鍵取決于對以下因素的認(rèn)真考慮：對鍍膜產(chǎn)品的預(yù)期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術(shù)因素。