帶鋼鍍膜質(zhì)量好，能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經(jīng)電子束預(yù)熱表面活化，鍍膜純度高，沒有中間硬脆的合金層，可以一次沖壓成型，甚至可以卷成直經(jīng)很小的管而不脫落鍍層。

工藝靈活，改變品種方便，可以根據(jù)產(chǎn)品要求靈活地實現(xiàn)在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，可以同時鍍兩種材料達到鍍混合膜。鍍膜厚度易于控制，而且可以鍍制超薄膜。

電子產(chǎn)品體積越來越小，越來越復雜，Parylene共形涂敷能夠提供超薄無防護來保證元件的可靠性和使用壽命。

橡膠/硅樹脂主要作用：干式潤滑，隔離，不互相沾黏、不沾纖維和污垢，無印記，無表面損傷 Parylene 能夠保護產(chǎn)品免受油、污垢和污染物的影響，提高潤滑性。涂敷防止彈性體元件中副產(chǎn)品溶出并保護產(chǎn)品表面不受和無機試劑、酸和溶液的影響。

高真空離子鍍是常見的塑膠產(chǎn)品電鍍技術(shù)中的目前市場新興興起的一種技術(shù)。真空鍍膜的方法很多，計有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13。高真空離子鍍，又稱高真空鍍膜加工。如今高真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種相來說比較盛行的一種做法，做出來的商品金屬質(zhì)感強，表面亮度高.而相對別的的鍍膜法來說，成本較低，對環(huán)境的污染小，可選擇原料種類多，這也是近年來一些電鍍加工廠比較推崇的鍍膜電鍍技術(shù)。

化學氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點：(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。派瑞林納米涂層式一種高分子熱可塑性聚合體，由單體對二在真空狀態(tài)下均勻分布在被涂裝物的縫隙和表層然后聚合。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無環(huán)境污染。