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物理l氣相沉積（真空鍍膜）基本方法 ：

從膜層特點看，真空蒸鍍低溫時密度小但表面光滑、氣孔低溫時多、附著性不太好、內(nèi)應力為拉應力繞射性差；濺射密度大、氣孔少但混入濺射氣體較多、附著性較好、內(nèi)應力為壓應力、繞射性差；離子鍍密度大 ，無氣孔但膜層缺陷較多，附著性很好，內(nèi)應力視工藝 條件而定，繞射性較好。③熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱效率高，熱傳導和熱輻射的損失少。

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鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：

本底漏率：本底漏率是指真空室在未加入氣體單位之前本身的單位漏率，漏率越大，進入爐內(nèi)的雜氣就越多，不管真空度多高，這會嚴重影響鍍膜過程中爐內(nèi)氣氛的純度和工件表面的潔凈度，會破壞膜層的結(jié)合力和膜層顏色的純度。

有機鍍膜與無機鍍膜的根本區(qū)別

有機物王要指含有碳、氫兩種元素的化合物，容易氧化、可燃燒、會降解。有機鍍膜與無機鍍膜的根本區(qū)別有機物王要指含有碳、氫兩種元素的化合物，容易氧化、可燃燒、會降解。有機物的熔點較低，一般不超過400℃，熱穩(wěn)定性差，容易受熱分解。比如含有j基（Me化學式-CH3)的化合物，因成分中含有碳氫基團，都屬于有機類物質(zhì)。無機物指不含碳元素的純凈物，其特點：1。一般不含碳元素2。分子較小3。通常不可燃燒。如二氧化硅（SiO2），中文別名r石英砂，屬于無機物。二氧化硅Sio2的熔點、沸點較高（熔點1723℃，沸點2230℃）。

鍍膜原理

陰極真空磁控濺射的特點：膜層厚度均勻、鍍膜速度快、基板溫度低。真空鍍膜技術(shù)是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。濺射鍍膜利用2個原理：輝光放電、連續(xù)撞擊。濺射過程是建立在氣體放電基礎(chǔ)上的，放電從低壓下開始的，氣體離子與靶材相互作用，離子不斷的撞擊靶表面，靶材從靶表面被轟擊下來然后在靶附近的基片（玻璃）上沉積下來，凝結(jié)成一層薄膜。