大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。氣體鋼瓶在運輸和裝卸過程中應輕裝輕卸，嚴禁拋、滑、滾及劇烈碰撞。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩(wěn)定和不間斷供應、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴格的要求。

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試驗室供氣需求

目前大多數(shù)試驗室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質(zhì)譜儀、液相色譜質(zhì)譜儀、原子吸收分光光度計、原子熒光光度計、等離子發(fā)射光譜儀、電感耦合等離子質(zhì)譜儀等都需要連續(xù)使用高純載氣和燃氣，因此試驗室的安全、連續(xù)、穩(wěn)定運行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗室中放置的分析儀器。氦質(zhì)譜檢漏儀真空檢漏的方法很多，氦質(zhì)譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。

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電子特氣管道系統(tǒng)氦檢漏檢測規(guī)定

1、氦檢漏儀表應采用質(zhì)譜型氦檢測儀，其檢測精度不得低于1*10-10mbar*l/s。

2、特氣系統(tǒng)，內(nèi)向測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s;

3、閥座測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s;

4、外向測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s。

氦檢漏發(fā)現(xiàn)的泄漏點經(jīng)修補后，應重新經(jīng)過氣密性試驗，合格后再按規(guī)定進行氦檢漏。所有可能泄漏點應用塑料袋進行隔離。系統(tǒng)測試完畢，應充入高純氮氣，并進行吹掃。測試完畢后，應提交測試報告。

氦質(zhì)譜檢漏儀

真空檢漏的方法很多，氦質(zhì)譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。

漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過其進入真空系統(tǒng)或容器中；

漏率（漏氣速率）：是指單位時間內(nèi)通過漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器的氣體量；

1小可檢漏率：是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來的1小漏率；

檢漏靈敏度：也叫有效靈敏度，指檢漏儀器在1佳工作狀態(tài)下能檢出的1小漏率；

反應時間：也稱響應時間，是指從檢漏方法開始實施（如噴射示漏氣體）到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔1大泄漏率的63%時所需要的時間；

消除時間：是指從檢漏方法停止（如停止噴吹示漏氣體）到指示方法或儀器指示值下降到漏孔泄漏率的37%時所需的時間；

漏孔堵塞現(xiàn)象：指由于真空檢漏作業(yè)操作不當導致塵?；蛞后w堵塞漏孔，檢漏時似乎不漏氣，但一經(jīng)排氣就會出現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象。