用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。特征：在真空室內(nèi)充入放電所需要的惰性氣體(如ya氣)，在高壓電場作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子。帶電離子被強電場加速，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料(稱為靶)。在離子轟擊下，蒸發(fā)源材料的原子將離開固體表面，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進行濺射。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)的主要特點和優(yōu)勢：和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點：1．膜層與工件表面的結(jié)合力強，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效lv高4．可鍍膜層種類廣泛5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。PVD鍍膜和PVD鍍膜機：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。

有四個因素影響著清洗的質(zhì)量，分別為：清洗時間、化學藥劑、機械作用以及清洗液溫度，這四個因素之間也相互影響，一個因素的減弱，可以通過增強另外三個因素的作用來彌補，反之亦然。在這四個因素中，清洗時間的zui小化也是追求的目標，這樣可以提高清洗的效率．縮短生產(chǎn)時間和交貨周期。清洗主要方法和步驟應包括：化學藥劑噴淋、化學藥劑浸泡與超聲波清洗、漂洗、烘干。1)化學藥劑噴淋噴淋對于清洗來說非常有效，它能夠清除掉工件上絕大部分油污及污染物。尤其對有孔工件來說，更加有效，噴淋到工件上的化學藥劑會流入孔中或化學藥劑被直接噴進孔中對孔內(nèi)壁進行沖洗。