公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

什么是光刻掩模板

　在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)，稱為光刻掩模版。

　　半導(dǎo)體集成電路制作過程通常需要經(jīng)過多次光刻工藝，在半導(dǎo)體晶體表面的介質(zhì)層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導(dǎo)電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套（幾塊多至十幾塊）相互間能套準(zhǔn)的、具有特定幾何圖形的光復(fù)印掩蔽模版。

光刻版在使用過程中不可避免的會粘上灰塵、光刻膠等污染物，這些污染物的存在直接影響到光刻的效果。為了保證光刻版潔凈，必須定期對光刻版進行清洗，而清洗的效果與清洗工藝以及各清洗工藝在設(shè)備上的合理配置有著密切的聯(lián)系。

接觸光刻技術(shù)中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；另一方面，縮微技術(shù)中使用的掩模具有表面特征圖案的實際尺寸。倍縮光掩模（Reticle）：當(dāng)鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光掩模，通常圖型要放大4倍、5倍或10倍。i在襯底上形成的圖案的幾次通過光學(xué)系統(tǒng)投影模式曝光i光明。 

按石英含量可分為兩類：①長石石英巖，石英含量大于75%，常含長石及云母等礦物，長石含量一般少于20%。如長石含量增多，則過渡為淺粒巖。②石英巖，石英含量大于90%，可含少量云母、長石、磁鐵礦等礦物。