公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務！

在用玻璃標定板標定時候都有遇到過標定板反光問題，有時候不能用背光源，只能用前置光源，光源投射下來，玻璃本身就是反光材料，燈光一亮反光嚴重，甚至導致無法標定板。

光刻掩膜版材質(zhì)可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時所常用的光刻掩膜版。

光致抗蝕劑也被稱為光致抗蝕劑。掩模板上的圖案被轉(zhuǎn)移到晶片表面頂層的光致抗蝕劑上，并且在后續(xù)工藝中保護下面的材料(蝕刻或離子注入)。光致抗蝕劑由光敏樹脂、光引發(fā)劑、添加劑、溶劑等組成。其中，光敏樹脂是光刻膠的關鍵成分。 

掩膜（MASK）就是指單片機設計掩膜就是指程序流程統(tǒng)計數(shù)據(jù)早已制成光刻版，在單片機設計生產(chǎn)制造的全過程中把程序流程做進來。優(yōu)勢是：程序流程靠譜、低成本。缺陷：大批量規(guī)定大，每一次改動程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產(chǎn)制造，交貨期長。當提取道路或者河流，或者房屋時，通過一個n*n的矩陣來對圖像進行像素過濾，然后將我們需要的地物或者標志突出顯示出來。 

選定的圖像、圖形或?qū)ο笥糜谧钃跻烟幚淼膱D像(全部或部分)，以控制圖像處理區(qū)域或過程。用于覆蓋的特定圖像或?qū)ο蠓Q為遮罩或模板。在光學圖像處理中，掩?？梢允潜∧?、濾光器等。在數(shù)字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時也使用多值圖像。