公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻工藝

是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫器件結(jié)構(gòu)，再通過刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)換到襯底上。原位芯片目前掌握電子束光刻，步進(jìn)式光刻，接觸式光刻等多種光刻技術(shù).

光刻板的應(yīng)用光刻技術(shù)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件，集成電路制造過程中

掩膜版：通俗點(diǎn)理解，相當(dāng)于過去用膠片沖洗照片時(shí)的底片。底片如果精度不夠，是洗不出來照片的。光刻機(jī)施工前，要根據(jù)設(shè)計(jì)好的芯片電路圖制作掩膜板。掩膜板材質(zhì)是石英玻璃，玻璃上有金屬鉻和感光膠。通過激光在金屬鉻上繪制電路圖。精度要求非常高。

　　透鏡：用透鏡的光學(xué)原理，將掩膜版上的電路圖按比例縮小，再用光源映射的硅片上。光在多次投射中會(huì)產(chǎn)生光學(xué)誤差。要控制這個(gè)誤差。精度要求很高。

　　就是測(cè)量臺(tái)移動(dòng)的控制器，也是納米級(jí)精度，要求超高。

光致抗蝕劑也被稱為光致抗蝕劑。掩模板上的圖案被轉(zhuǎn)移到晶片表面頂層的光致抗蝕劑上，并且在后續(xù)工藝中保護(hù)下面的材料(蝕刻或離子注入)。光致抗蝕劑由光敏樹脂、光引發(fā)劑、添加劑、溶劑等組成。其中，光敏樹脂是光刻膠的關(guān)鍵成分。 

按石英含量可分為兩類：①長(zhǎng)石石英巖，石英含量大于75%，常含長(zhǎng)石及云母等礦物，長(zhǎng)石含量一般少于20%。如長(zhǎng)石含量增多，則過渡為淺粒巖。②石英巖，石英含量大于90%，可含少量云母、長(zhǎng)石、磁鐵礦等礦物。