公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻是制造半導(dǎo)體器件和集成電路微圖形結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵工藝。其工藝質(zhì)量直接影響著器件成品率、可靠性、器件性能以及使用壽命等參數(shù)指標(biāo)。光罩是光刻工藝中的一個(gè)重要環(huán)節(jié)，光刻版必須非常潔凈，所有硅片上的電路元件都來(lái)自版圖。如果光刻版不潔凈，存在污染顆粒，這些顆粒就會(huì)被到硅片表面的光刻膠上，造成器件性能的下降。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時(shí)所常用的光刻掩膜版。

機(jī)顯時(shí)還要注意以下幾點(diǎn)：①要定期維護(hù)顯影機(jī)，以保證已曝光的PS版顯影能正常進(jìn)行。②在顯影之前必須保持各傳動(dòng)輥清潔，若牽引輥不干凈，顯影時(shí)印版易粘上臟點(diǎn)。③如顯影機(jī)有涂膠裝置，一定注意膠輥要保持清潔，否則要弄臟印版。④一般情況下，陽(yáng)圖PS版顯影液(原液)的顯影能力為10m2/L。⑤上保護(hù)膠時(shí)，一定要均勻施膠，不能太厚，以免干后導(dǎo)致涂層龜裂和掉版。賡旭光電光學(xué)玻璃可用于制造光學(xué)儀器中的濾光片、透鏡、棱鏡、反射鏡及窗口等。

掩膜版是對(duì)勻膠鉻版經(jīng)過(guò)光繪加工后的產(chǎn)品。勻膠鉻版（光掩膜基版）由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構(gòu)成的。通過(guò)光刻制版工藝，將微米級(jí)和納米級(jí)的精細(xì)圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。