公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

蝕刻工藝通常稱為版

刻蝕（Etch）是按照掩模圖形或設計要求對半導體襯底表面或表面覆蓋薄膜進行選擇性刻蝕的技術，它是半導體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻相聯(lián)系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝?？涛g分為干法刻蝕和濕法腐蝕。原位芯片目前掌握多種刻蝕工藝，并會根據(jù)客戶的需求，設計刻蝕效果好且性價比高的刻蝕解決方案。前述將電路制造在半導體芯片表面上的集成電路又稱薄膜（thin-film）集成電路。

一種具有保護環(huán)的光刻板，包括光刻板本體和設置在光刻板本體外圈的保護環(huán)，所述保護環(huán)緊密圍在光刻板本體的外部邊緣處并將內部的光刻板本體圍起，所述保護環(huán)上具有圓型開孔、直角型開孔與直線型開孔，所述直角型開孔設置在光刻板本體的轉角處，所述直線型開孔設置在光刻板本體的水平邊緣與豎直邊緣，所述圓型開孔設置在直角型開孔與直線型開孔的連接處。賡旭光電光學玻璃可用于制造光學儀器中的濾光片、透鏡、棱鏡、反射鏡及窗口等。

使用無掩模光刻機讀取版圖文件，對帶膠的空白掩膜版進行非接觸式曝光（曝光波長405nm），照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠（通常為正膠）發(fā)生光化學反應

經(jīng)過顯影、定影后，曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層

光刻工藝

是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫器件結構，再通過刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉換到襯底上。原位芯片目前掌握電子束光刻，步進式光刻，接觸式光刻等多種光刻技術.

光學掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統(tǒng)）等。光刻掩膜版材質可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。