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揚(yáng)州掩膜版擇優(yōu)推薦

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發(fā)布時(shí)間:2020-08-21 05:09  






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用選定的圖像、圖形或物體,對(duì)處理的圖像(全部或局部)進(jìn)行遮擋,來(lái)控制圖像處理的區(qū)域或處理過程。用于覆蓋的特定圖像或物體稱為掩?;蚰0?。光學(xué)圖像處理中,掩模可以是膠片、濾光片等。數(shù)字圖像處理中,掩模為二維矩陣數(shù)組,有時(shí)也用多值圖像。




光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的過程中,利用光蝕刻技術(shù),在半導(dǎo)體上形成圖型,為將圖型於晶圓上,必須透過光罩作用的原理,類似于沖洗照片時(shí),利用底片將影像至相片上。






光刻(英語(yǔ):photolithography)是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。光刻工藝是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟,利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫器件結(jié)構(gòu),再通過刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)換到襯底上。

集成電路(英語(yǔ):integrated circuit,縮寫:IC;凹版網(wǎng)點(diǎn)由于制版方式的不同,版輥上所反映的網(wǎng)點(diǎn)也有所差別:電雕雕刻網(wǎng)點(diǎn)隨著網(wǎng)成的變化,網(wǎng)點(diǎn)的大小和深度也跟隨著變化。德語(yǔ):integrierter Schaltkreis)、或稱微電路(microcircuit)、微芯片(microchip)、晶片/芯片(chip)在電子學(xué)中是一種把電路(主要包括半導(dǎo)體設(shè)備,也包括被動(dòng)組件等)小型化的方式,并時(shí)常制造在半導(dǎo)體晶圓表面上。前述將電路制造在半導(dǎo)體芯片表面上的集成電路又稱薄膜(thin-film)集成電路。另有一種厚膜(thick-film)集成電路(hybrid integrated circuit)是由獨(dú)立半導(dǎo)體設(shè)備和被動(dòng)組件,集成到襯底或線路板所構(gòu)成的小型化電路。






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