公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

掩膜（MASK）：全稱單片機掩膜，是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機生產(chǎn)的過程中把程序做進(jìn)去。優(yōu)點是：程序可靠、成本低。缺點：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時生產(chǎn)，供貨周期長。

應(yīng)用于芯片制造的光掩膜為高敏感度的鉻版。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應(yīng)用于芯片制造。(順便提一下，通常講的菲林即film，底片或膠片的意思，感光為微小晶體顆粒)。

如需要烤版，烤版時要注意：①首先要選好烤版膠，烤版膠不能太臟。如用固體桃膠配制，一定要用熱水溶膠，膠要徹底溶開、過濾再用。②把適量的烤版膠涂在版面上，用海綿將版面涂擦均勻。③烤版膠不能用干布擦拭。凹版網(wǎng)點由于制版方式的不同，版輥上所反映的網(wǎng)點也有所差別：電雕雕刻網(wǎng)點隨著網(wǎng)成的變化，網(wǎng)點的大小和深度也跟隨著變化。④版材在烘版箱中烘烤，圖像區(qū)域會均勻變色。不同的PS版，烘烤時間、溫度及終顏色會不一致，所以需通過試驗確定烤版條件。

接觸光刻技術(shù)中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；另一方面，縮微技術(shù)中使用的掩模具有表面特征圖案的實際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過光學(xué)系統(tǒng)投影模式曝光i光明。在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對掩膜版進(jìn)行清洗。