電鍍鎳光亮劑發(fā)展至今,經(jīng)歷了四個(gè)階段

電鍍鎳光亮劑發(fā)展至今,經(jīng)歷了四個(gè)階段:階段為采用無(wú)機(jī)光亮劑,如鎘鹽等;第二階段為與糖精;第三階段為與環(huán)氧化合物的縮合物與糖精;第四階段為中間體復(fù)配的次級(jí)光亮劑與作為初級(jí)光亮劑的柔軟劑,即所謂第四代鍍鎳光亮劑。與糖精配合,能得到白亮鍍層,但整平性差,鍍層無(wú)“肉頭”。的還原產(chǎn)物1,4一和正丁烷等殘留在鍍液中,使鍍液性能惡化且很難用活性碳除去。于是開(kāi)發(fā)出將與、進(jìn)行催化縮合的BE、PK、791等產(chǎn)品,它們的整平性比好得多,大處理周期也較長(zhǎng)。

出光速度慢、整平性不理想、低電流密度區(qū)光亮性差或漏鍍、高電流

但其不足之處是:出光速度慢、整平性不理想、低電流密度區(qū)光亮性差或漏鍍、高電流密度區(qū)易發(fā)霧。只適用于要求不高的簡(jiǎn)單工件,復(fù)雜件則難達(dá)要求。出光速度慢帶來(lái)生產(chǎn)效率低、鎳耗較大等不利情況。第四代鍍鎳初級(jí)光亮劑一般由3～5種中間體復(fù)配而成,其中有些組分完全擺脫了炔屬體系。即使采用炔屬類(lèi)也不大用,而是的加成物。直接用代替,光亮整平性好得多,但鍍層脆性很大,故不宜直接加入。第四代鍍鎳初級(jí)光亮劑為柔軟劑,實(shí)際上也是由幾種中間體復(fù)配而成,產(chǎn)品差異很大。

微裂紋鉻 20世紀(jì)60年代中期，開(kāi)發(fā)了電鍍高應(yīng)力鎳產(chǎn)生微裂紋鉻新工藝。其方法是在光亮鎳上再電鍍一薄層(約 1微米)高應(yīng)力鎳，具有很高內(nèi)應(yīng)力的鎳層，極易形成微裂紋，隨后鍍鉻，鉻層就形成微裂紋鉻。鉻層厚度為0. 25μm國(guó)外稱(chēng)為PNS (Pots NickelStrike}工藝。鍍耐磨鉻是種功能性電鍍， 主要目的是利用鉻的特性以提高機(jī)械零件的硬度、耐磨、耐濕 和耐蝕等物化性能。

鍍后除氫。由于鍍鉻的電流效率低，在陰極上大量析出氫氣，對(duì)于易析氫的鋼鐵部件，應(yīng)在鍍后180～200℃的溫度，除氫3H，以避免發(fā)生氫脆。2、鉻霧抑制。鍍鉻過(guò)程中，由于使用不溶性陽(yáng)極，陰極電流效率又很低，致使大量氫氣和氧氣析出，當(dāng)氣體逸出液面時(shí)，帶有大量的鉻酸，形成鉻霧造成嚴(yán)重的污染。目前抑制鉻霧的方法有兩種。一種是將泡沫塑料碎塊或碎片放入鍍液的液面上，可阻滯鉻霧的逸出，已淘汰。另一種是加入泡沫，降低鍍液的表面張力，產(chǎn)生穩(wěn)定的泡沫層，覆蓋在鍍液表面，當(dāng)帶有鉻酸的氫氣和氧氣析出時(shí)，與表面的泡沫層相碰撞，無(wú)數(shù)微小的鉻酸霧結(jié)合成較大的霧滴，由于重力作用，當(dāng)上升一定高度時(shí)將重回鍍液，而氫氣和氧氣繼續(xù)上升，直至離開(kāi)液面，這樣實(shí)現(xiàn)氣體的排除和對(duì)鉻霧的有效抑制。這是現(xiàn)在的主流。